[發(fā)明專利]用于在生產(chǎn)粗紗的預(yù)備機的卷繞裝置之前監(jiān)測粗紗下垂的裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711165469.0
• 申請日: 2017-11-21
• 公開（公告）號: CN108085797A
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M.斯圖薩克
• 申請（專利權(quán)）人: 里特機械公司
• 主分類號: D01H1/36
• 分類號: D01H1/36;D01H1/40;D01H7/92
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張一舟;鄧雪萌

1.一種用于在生產(chǎn)粗紗（1）的預(yù)備機的卷繞裝置（4）之前監(jiān)測粗紗（1）的所述下垂的裝置，其特征在于，在所述粗紗（1）的所述最大下垂區(qū)域中布置粗紗（1）傳感器，所述粗紗傳感器包括朝向所述粗紗（1）取向的細長調(diào)制輻射源（5）和用于監(jiān)測從所述粗紗（1）反射的輻射的細長輻射傳感器（7），所述細長輻射傳感器平行于細長輻射源（5）布置，由此，所述細長輻射源（5）的長度和所述細長輻射傳感器（7）的長度大于所述粗紗（1）的推測的最大下垂。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述細長輻射源（5）包括至少一排輻射器（51），并且所述細長輻射傳感器（7）包括至少一排感測元件（71），所述至少一排感測元件中的每個具有分配至其的選擇性放大器（72）。

3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述選擇性放大器（72）包括合成電感諧振電路（Ls），用于僅選擇性地評估相應(yīng)細長源（5）的調(diào)制輻射。

4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述選擇性放大器（72）經(jīng)由微分積分檢測器（73）和評估構(gòu)件（74）連接到控制系統(tǒng)（9），用于調(diào)節(jié)所述粗紗（1）進入所述粗紗（1）的下垂的區(qū)域的速度。

5.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述選擇性放大器（72）經(jīng)由微分積分檢測器（73）和評估構(gòu)件（74）連接到控制系統(tǒng)（9），用于調(diào)節(jié)所述粗紗（1）離開所述粗紗（1）的下垂的區(qū)域的速度。

6.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述選擇性放大器（72）經(jīng)由所述微分積分檢測器（73）和所述評估構(gòu)件（74）連接到控制系統(tǒng)（9），用于調(diào)節(jié)所述粗紗（1）進入所述粗紗（1）的下垂的區(qū)域的速度，并且還調(diào)節(jié)所述粗紗（1）離開所述粗紗（1）的下垂的區(qū)域的速度。

7.如權(quán)利要求4至6中任一項所述的裝置，其特征在于，所述評估構(gòu)件（74）由微處理器形成。