[發(fā)明專利]陣列基板及其制作方法、柔性顯示面板、柔性顯示器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711165143.8 | 申請日： | 2017-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN107703672A | 公開（公告）日： | 2018-02-16 |
| 發(fā)明（設計）人： | 查國偉 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335;G02F1/13357;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司44202 | 代理人： | 郝傳鑫,熊永強 |
| 地址： | 430070 湖北省武漢市武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陣列 及其 制作方法 柔性 顯示 面板 顯示器 | ||
1.一種陣列基板，其特征在于，包括柔性基底和依次層疊在所述柔性基底表面的介質層與金屬線柵層，所述柔性基底背離所述介質層的表面具有散射結構。
2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬線柵層包括平行排布的金屬線，所述金屬線之間的排布間隔為20-500nm，所述金屬線的占空比為0.1-0.9。
3.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述散射結構為形成在所述柔性基板表面或者內(nèi)部的網(wǎng)點結構。
4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述介質層的材質包括SiO2、SiO、MgO、Si3N4、TiO2和Ta2O5中的一種或多種。
5.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述柔性基底為一導光板。
6.一種柔性顯示面板，其特征在于，包括權利要求1-5任一項陣列基板，液晶層和彩膜基板，所述液晶層夾持在所述彩膜基板和所述陣列基板之間。
7.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
提供硬質基板；
在所述硬性基板上制備柔性基底，在所述柔性基底中形成散射結構；
在所述柔性基底上制備介質層，所述散射結構位于所述柔性基底背離所述介質層的表面；
在所述介質層上形成金屬層，并圖案化金屬層形成金屬線柵層；
在所述金屬線柵層上依次制備間隔層和薄膜晶體管驅動層；
剝離所述硬質基板，得到陣列基板。
8.如權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在所述柔性基底中形成散射結構包括：
在所述硬性基板上制備凸、凹型的網(wǎng)點結構，然后在所述硬質基板具有凸、凹型的網(wǎng)點結構的表面上制備柔性基底。
9.如權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述金屬線柵層包括平行排布的金屬線，所述金屬線之間的排布間隔為20-500nm。
10.一種柔性顯示器，其特征在于，包括如權利要求6所述的柔性顯示面板及背光源，所述背光源為所述柔性顯示面板提供光源。
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