[發(fā)明專利]用于涂抹美發(fā)產(chǎn)品的化妝品再填充器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711160805.2
• 申請日: 2017-11-20
• 公開（公告）號: CN108065561B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 愛德華·梅薩熱;弗雷德里克·若萊;N·杜魯
• 申請（專利權(quán)）人: 歐萊雅;SEB公司
• 主分類號: A45D1/04
• 分類號: A45D1/04;A45D2/00
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華;李欣

1.一種化妝品再填充器(20)，所述化妝品再填充器(20)用于以可移除的方式插入到用于處理頭發(fā)的系統(tǒng)(2)的殼體中，所述化妝品再填充器(20)包括：

-主體(23)，所述主體(23)包括形成儲存器(30)的空腔，所述空腔容納液體形式的美發(fā)產(chǎn)品，所述儲存器(30)具有開口(31)，所述開口(31)的寬度小于所述儲存器(30)的寬度；

-多孔涂抹構(gòu)件(26)，所述多孔涂抹構(gòu)件(26)通過所述開口(31)部分地延伸到所述儲存器(30)中，在使用所述再填充器(20)時，所述涂抹構(gòu)件(26)固定在所述儲存器(30)中，所述涂抹構(gòu)件(26)的厚度基本上等于或略微大于所述開口(31)的寬度，所述涂抹構(gòu)件(26)僅在所述儲存器(30)的寬度K的一部分上延伸，所述涂抹構(gòu)件(26)具有基本上平行六面體的形狀，所述涂抹構(gòu)件(26)具有至少兩個較大的相對的側(cè)面(27，28)，所述相對的側(cè)面(27，28)至少部分地與容納在所述儲存器(30)中的所述美發(fā)產(chǎn)品接觸并且至少部分地延伸到所述儲存器(30)中，所述涂抹構(gòu)件(26)的平均孔徑在5μm和100μm之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器，其中，所述涂抹構(gòu)件(26)在所述儲存器(30)的整個高度H上延伸到所述儲存器(30)中，從而有利地支承在所述儲存器(30)的底部上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器，其中，所述涂抹構(gòu)件(26)由燒結(jié)材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器，所述涂抹構(gòu)件(26)是模制的。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器，其中，所述涂抹構(gòu)件(26)以可移除的方式安裝在所述儲存器(30)中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器，其中，所述涂抹構(gòu)件(26)的厚度e小于或等于30mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器，其中，所述儲存器(30)具有基本上柱形的形狀。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器，其中，所述儲存器(30)包括通過可移除的塞子(46)封閉的美發(fā)產(chǎn)品填充孔(48)。

9.一種用于處理頭發(fā)的系統(tǒng)(2)，包括：

-用于處理所述頭發(fā)的裝置，以及

-根據(jù)權(quán)利要求1所述的再填充器(20)，所述再填充器(20)安裝在所述裝置上。

10.一種用于處理頭發(fā)的方法，所述方法包括使用根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)將美發(fā)產(chǎn)品涂抹到一綹頭發(fā)上的步驟。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，在施加34N的壓力并以2cm/s的速度在27cm長的標(biāo)準(zhǔn)80g/m²的紙張上移動涂抹器的一次涂抹中所沉積的美發(fā)產(chǎn)品的量在0.005g和0.5g之間。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的方法，其中，在施加34N的壓力并且以2cm/s的速度在27cm長的標(biāo)準(zhǔn)80g/m²的紙張上移動涂抹器的一次涂抹中利用所述再填充器所沉積的美發(fā)產(chǎn)品的量在第1次涂抹與第75次涂抹之間所沉積的所述美發(fā)產(chǎn)品的量變化最高50％。