[發(fā)明專利]一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711156554.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107763987A | 公開(公告)日: | 2018-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 毛彩娣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 毛彩娣 |
| 主分類號(hào): | F26B9/10 | 分類號(hào): | F26B9/10;F26B25/04 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 214522 江蘇省泰州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鋪平 功能 陣列 五谷 鋪曬機(jī) | ||
1. 一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī), 其特征在于: 包括中心曬谷盤和以所述中心曬谷盤為圓心環(huán)形陣列設(shè)置的若干個(gè)陣列曬谷盤,所述中心曬谷盤與陣列曬谷盤通過滑軌連接,所述陣列曬谷盤底部設(shè)置有滑塊,所述滑塊與滑軌配合設(shè)置,滑塊能夠在滑軌上滑行,所述滑軌的一端固定設(shè)置在中心曬谷盤的底部,另一端向陣列曬谷盤的下部延伸設(shè)置,所述滑軌的長(zhǎng)度大于中心曬谷盤與陣列曬谷盤的長(zhǎng)度之和;所述陣列曬谷盤和中心曬谷盤的盤內(nèi)皆設(shè)置有鋪平裝置,所述鋪平裝置包括電機(jī)、轉(zhuǎn)軸和刮刀,所述轉(zhuǎn)軸與電機(jī)連接,所述刮刀固定設(shè)置在轉(zhuǎn)軸的圓周壁上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī), 其特征在于:所述中心曬谷盤為圓盤形。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī), 其特征在于:所述陣列曬谷盤也為圓盤形,且直徑、壁厚以及壁厚都與中心曬谷盤一致。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī), 其特征在于:所述陣列曬谷盤的盤壁上部設(shè)置有臺(tái)階,底部設(shè)置有疊加部,所述疊加部的外徑等于陣列曬谷盤的內(nèi)徑,所述疊加部與臺(tái)階相互配合設(shè)置。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī), 其特征在于:所述陣列曬谷盤的盤壁上部亦設(shè)置有與疊加部相配合的臺(tái)階。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī), 其特征在于:所述陣列曬谷盤至少有6個(gè)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶鋪平功能的陣列式五谷鋪曬機(jī), 其特征在于:所述刮刀垂直立在中心曬谷盤和陣列曬谷盤的底盤上,且刮刀的長(zhǎng)度小于陣列曬谷盤的內(nèi)徑。
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