[發明專利]高溫解炮爆破器材隔熱裝置及爆破方法在審
| 申請號: | 201711156548.5 | 申請日: | 2017-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN107782210A | 公開(公告)日: | 2018-03-09 |
| 發明(設計)人: | 束學來;王鐵;李戰軍;彭斌;劉翼;黃龍兵;王佩佩;張繼云;楊登躍 | 申請(專利權)人: | 宏大爆破有限公司 |
| 主分類號: | F42D1/08 | 分類號: | F42D1/08;F42D3/04 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產權代理有限公司44245 | 代理人: | 陳燕嫻,李君 |
| 地址: | 511300 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高溫 爆破 器材 隔熱 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種隔熱裝置,尤其是一種高溫解炮爆破器材隔熱裝置及爆破方法,屬于高溫爆破隔熱領域。
背景技術
在我國山西、內蒙、寧夏等地存在著大量的自燃煤礦,導致圍巖具有較高的溫度,局部溫度可達700℃以上。目前主要采取鉆孔爆破或者機械強挖處理高溫圍巖,其中鉆孔爆破主要針對硬巖,機械強挖主要處理軟巖,兩者中又以鉆孔爆破為主,然后機械出煤。受圍巖高溫的影響,使得圍巖存在大量裂隙、鉆孔時常發生不到位、裝藥過程中藥量和堵塞控制不精細等現象發生,導致強挖過程或爆破后存在大量常規挖機和運輸設備無法處理的高溫大塊。
高溫大塊的處理,目前主要是自然降溫達到60℃以下時,采取鉆孔爆破,然后挖運。隨著溫度升高,大塊溫度降至60℃所需時間越長,一般需要2天以上。高溫大塊長時間位于工作面,首先影響了挖運和運輸效率;其次無法與上部平臺爆破同時處理,增加了爆破成本;最后影響了礦山整體形象。
發明內容
本發明的目的是為了解決上述現有技術的缺陷,提供了一種高溫解炮爆破器材隔熱裝置,該裝置結構簡單,成本較低,操作方便,可用于保護炸藥和導爆索,使得爆破器材可在高溫解炮炮孔內安全使用,不僅解決了高溫對大塊解炮的處理時間限制,而且可附著與相鄰大炮區區同時起爆,節省了爆破成本。
本發明的另一目的在于提供一種基于上述裝置的爆破方法。
本發明的目的可以通過采取如下技術方案達到:
一種高溫解炮爆破器材隔熱裝置,包括隔熱筒、保溫液和封口蓋,所述隔熱筒的一端開口,另一端與封口蓋密封連接,且內部具有用于放置炸藥和導爆索的空腔,所述保溫液位于隔熱筒的空腔內。
作為一種優選方案,所述裝置還包括定位桿,所述定位桿用于壓緊隔熱筒空腔內的炸藥,且定位桿上刻有刻度。
作為一種優選方案,所述隔熱筒的側壁包括由外至內依次設置的約束層和盛液層,所述約束層的兩端開口,所述盛液層的一端開口,另一端封閉,盛液層的封閉端位于隔熱筒與封口蓋密封連接的一端。
作為一種優選方案,所述盛液層采用高強度防水材料制成,盛液層的厚度為0.05mm~1mm。
作為一種優選方案,所述約束層包括由外至內依次設置的強度層和粘附層。
作為一種優選方案,所述強度層采用高強度光滑復合材料制成,強度層的厚度為0.1mm~0.3mm。
作為一種優選方案,所述粘附層采用高強度粘性樹脂材料制成,粘附層的厚度為0.01mm~0.2mm。
作為一種優選方案,所述封口蓋包括封蓋和折邊,所述折邊設置在封蓋的邊緣,并垂直于封蓋。
作為一種優選方案,所述隔熱筒呈圓筒狀,所述封蓋呈圓形狀,所述折邊呈圓環狀。
作為一種優選方案,所述隔熱筒的內徑大于所裝乳化炸藥的直徑4mm~8mm,隔熱筒的外徑小于解炮炮孔的直徑4mm~10mm;所述折邊的內徑大于隔熱筒的外徑1mm~2mm,折邊的高度為3cm~5cm。
作為一種優選方案,所述保溫液為高吸能液體。
本發明的另一目的可以通過采取如下技術方案達到:
一種基于上述裝置的爆破方法,所述方法包括:
用封口蓋將隔熱筒的與開口端相對的另一端密封;
將導爆索插入一條乳化炸藥作為起爆藥包;
在炮區網絡連接完成,且起爆站到位后,將保溫液倒入隔熱筒內;
將乳化炸藥依次放入隔熱筒內,并在最后將起爆藥包放入隔熱筒內;
裝藥完成后,若隔熱筒內的保溫液未加滿隔熱筒,則繼續向隔熱筒內倒入保溫液,直至與隔熱筒的開口端齊平;
將裝藥的隔熱筒放入相應的高溫解炮炮孔內,并進行爆破。
本發明相對于現有技術具有如下的有益效果:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于宏大爆破有限公司,未經宏大爆破有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711156548.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:具有高雪崩健壯性的晶體管裝置
- 下一篇:一種電噴霧離子源的背景降噪裝置





