[發(fā)明專利]一種電化學(xué)水處理設(shè)備及水處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711155219.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107720890B | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉慶華;張弓;劉會(huì)娟;曲久輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C02F1/461 | 分類號(hào): | C02F1/461;C02F1/66 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 蘇蕾;陳丹 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電化學(xué) 水處理設(shè)備 水處理 方法 | ||
1.一種微流場強(qiáng)化的穿過式電化學(xué)水處理設(shè)備,包括電化學(xué)水處理單元、進(jìn)水口和出水口,其中所述電化學(xué)水處理單元包括:
至少一組電極,所述電極具有有序孔結(jié)構(gòu);
至少一個(gè)絕緣隔離層,所述至少一個(gè)絕緣隔離層設(shè)置于所述至少一組電極中的兩個(gè)電極之間;
其中,所述至少一組電極的至少一個(gè)電極的孔結(jié)構(gòu)的孔壁上負(fù)載有呈納米微結(jié)構(gòu)的催化劑;并且
其中,所述電極的孔隙率為30%至95%,所述孔結(jié)構(gòu)的孔徑為100納米至800微米。
2.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述納米微結(jié)構(gòu)包括納米錐陣列、納米顆粒或納米片中的一種或更多種;所述納米微結(jié)構(gòu)的尺寸為5納米至500納米。
3.如權(quán)利要求2所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述納米微結(jié)構(gòu)的平均寬度為10納米至100納米,平均高度為30納米至500納米。
4.如權(quán)利要求2所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,當(dāng)所述納米微結(jié)構(gòu)為所述納米錐陣列時(shí),所述納米微結(jié)構(gòu)的平均寬度為30納米至60納米,平均高度為100納米至200納米;當(dāng)所述納米微結(jié)構(gòu)為所述納米顆粒或所述納米片時(shí),所述納米微結(jié)構(gòu)的平均寬度為5納米至40納米。
5.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述催化劑選自聚苯胺、聚吡咯、鈀、鈀合金、金合金、鉑合金、氧化釕、氧化銥中的一種或更多種。
6.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述電極由導(dǎo)電材料制備,所述導(dǎo)電材料選自石墨烯凝膠、碳?xì)饽z、活性炭纖維、石墨纖維氈、泡沫鎳、泡沫銅或泡沫鈦中的一種或更多種。
7.如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述絕緣隔離層為多孔介電材料,所述多孔介電材料選自聚氨酯、尼龍、聚丙烯、醋酸纖維素纖維中的一種或更多種;所述絕緣隔離層厚度為0.1毫米至5毫米。
8.如權(quán)利要求7所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述多孔介電材料的孔隙率為50%至70%,孔徑為0.1微米至1.2微米。
9.如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中所述至少一組電極形成微流場。
10.如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述至少一組電極包括陰極和陽極,所述絕緣隔離層位于所述陰極和所述陽極之間。
11.如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,其中,所述電化學(xué)水處理單元包括多組電極,所述多組電極按照陰極/絕緣隔離層/陽極/絕緣隔離層/陰極/絕緣隔離層/陽極……的順序依次排列。
12.一種水處理方法,使用根據(jù)權(quán)利要求1-11中任一項(xiàng)所述的電化學(xué)水處理設(shè)備,所述方法包括以下步驟:
對(duì)所述至少一組電極施加1.0V至5.0V的電壓,使含污染物的原水經(jīng)由所述進(jìn)水口進(jìn)入所述電化學(xué)水處理設(shè)備,并穿過式通過所述電化學(xué)水處理單元,然后經(jīng)所述出水口流出。
13.如權(quán)利要求12所述的水處理方法,其中所述原水以50L/h·m2至500L/h·m2的流速均勻通過所述電化學(xué)水處理單元。
14.如權(quán)利要求12或13所述的水處理方法,其中水流方向與電場方向平行或垂直。
15.如權(quán)利要求12或13所述的水處理方法,其中在原水進(jìn)入所述電化學(xué)水處理設(shè)備之前,還包括對(duì)原水調(diào)節(jié)pH的步驟。
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