[發明專利]噴淋蝕刻系統

有效

• 申請號: 201711153828.0
• 申請日: 2017-11-20
• 公開（公告）號: CN108034946B
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 王秋旺;辛菲;馬挺;李雄輝;鄧天瑞
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: C23F1/08
• 分類號: C23F1/08;H05K3/06
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 徐文權

1.一種噴淋蝕刻系統，包括電機(1)、蝕刻箱(2)、蝕刻液噴射裝置(4)、擺動導桿機構(5)、壓力表(7)、流量計(8)、塑料泵(10)、蝕刻液收集箱(12)、ORP氧化還原計(13)以及由加熱棒(15)和冷卻管道(16)組成的溫控系統，其特征在于：蝕刻液噴射裝置(4)設置在蝕刻箱(2)內并且具有由多個平面組成的呈正多邊形柱體的外形，蝕刻液噴射裝置(4)的兩側分別設置有一個夾板(6)，夾板(6)上具有呈正多邊形分布的基板固定孔陣列，蝕刻基板(3)固定在夾板(6)的基板固定孔陣列的基板固定孔(23)上；蝕刻液從蝕刻液噴射裝置(4)的多個平面垂直噴淋到由電機(1)和擺動導桿機構(5)帶動的呈多邊形空間分布的蝕刻基板(3)上。

2.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述的蝕刻基板(3)在蝕刻箱(2)內呈多邊形與噴嘴(22)垂直分布。

3.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述基板固定孔陣列為多個，并且各基板固定孔陣列到夾板(6)中心的距離不同使得蝕刻基板(3)與蝕刻液噴射裝置(4)的間距可調節。

4.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述的蝕刻液噴射裝置(4)的各平面上布置有多個噴嘴(22)，噴嘴(22)為錐形或扇形。

5.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述蝕刻液噴射裝置(4)由電機(1)水平控制，通過電機連接件(19)連接夾板(6)并預設運行軌跡以帶動蝕刻基板(3)平動。

6.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述蝕刻液噴射裝置(4)由擺動導桿機構(5)控制轉動，擺動導桿機構(5)帶動圓周分布的轉動導桿(18)控制夾板(6)旋轉使蝕刻基板(3)圍繞蝕刻液噴射裝置(4)作圓周運動。

7.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述溫控系統由加熱棒(15)、冷卻管道(16)和溫控儀(14)組成，加熱棒(15)和冷卻管道(16)控制蝕刻液的加熱和冷卻，以控制蝕刻液溫度穩定在某一范圍內。

8.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述ORP氧化還原計(13)設置在蝕刻液收集箱(12)中，可實時監控蝕刻液的氧化還原能力。

9.根據權利要求1所述的噴淋蝕刻系統，其特征在于：所述蝕刻箱(2)連接蝕刻液收集箱(12)，蝕刻液收集箱(12)連接塑料泵(10)處布置有密網，以過濾蝕刻液雜質及蝕刻后的殘渣，可以防止噴淋裝置受堵。