[發明專利]用于退除玻璃NCVM膜層的退鍍液及退鍍工藝和玻璃制品

有效

• 申請號: 201711153824.2
• 申請日: 2017-11-17
• 公開（公告）號: CN109796138B
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 周群飛;蔡杰勇;亢德凱
• 申請（專利權）人: 藍思科技（長沙）有限公司
• 主分類號: C03C23/00
• 分類號: C03C23/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 趙麗娜

本發明公開了一種用于退除玻璃NCVM膜層的退鍍液及退鍍工藝和玻璃制品，涉及蓋板玻璃退鍍技術領域，退鍍液按質量百分含量包括如下組分：50?70％濃度的硝酸15～25％，羧基酸類絡合劑2～5％，氨基磺酸10～15％，滲透劑1～3％，其余為水。該退鍍工藝常溫下使用上述退鍍液對NCVM鍍膜并絲印油墨后的玻璃進行退鍍。本發明緩解了傳統使用高溫、強堿性退鍍液在退鍍過程中容易對產品NCVM膜層造成過退，絲印油墨容易出現牙缺、麻點等缺陷的技術問題。本發明的退鍍液在常溫即可有效退除NCVM膜層，不容易發生過退現象，也不會損傷絲印油墨，避免了絲印油墨發生牙缺、麻點等問題，使用該退鍍液退鍍后的玻璃外觀良好。

技術領域

本發明涉及蓋板玻璃退鍍技術領域，具體而言，涉及一種用于退除玻璃NCVM膜層的退鍍液及退鍍工藝和玻璃制品。

背景技術

隨著社會的進步，2D、2.5D或3D玻璃已經應用于各種電子產品上，成為一種時尚，與傳統塑料和金屬手機電池蓋相比，2D、2.5D或3D玻璃有輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、耐刮傷和耐候性等優點。在玻璃上電鍍LOGO已成為一種時尚，蓋板玻璃電鍍LOGO工藝包括：產品清洗—電鍍NCVM—絲印油墨—退鍍—清洗—檢驗，即先在玻璃上鍍一層NCVM膜，然后絲印好圖案后選擇性去掉一部分，從而賦予鍍膜層圖案化效果，形成LOGO。NCVM膜的成分為：氧化硅、氧化銦和氧化鈦等復合膜層，厚度通常在45μm左右，NCVM膜是通過NCVM(Non-Conductive Vacuum Metalize，真空不導電電鍍)而成，為一種非導電的真空金屬化鍍膜制程，NCVM采用特殊金屬，采用該工藝不僅使鍍上的薄膜具有金屬光澤，而且該薄膜具備非導電性質，不容易干擾信號，采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各相不連續之特性，達到最終產品外觀有金屬質感且不影響到無線通訊傳輸的效果。

傳統對于NCVM膜層的退除采用的是強堿性的退鍍液，而且在退鍍時往往需要在較高溫度下進行，但使用高溫、強堿性退鍍液在退鍍過程中容易對產品電鍍LOGO(NCVM膜層)造成過退，絲印油墨容易出現牙缺、麻點等問題，影響產品外觀質量。

有鑒于此，特提出本發明。

發明內容

本發明的目的之一在于提供一種用于退除玻璃NCVM膜層的退鍍液，該退鍍液在常溫即可有效退除NCVM膜層，造成過退幾率小，也不會損傷絲印油墨，避免了絲印油墨發生牙缺、麻點等問題，使用該退鍍液退鍍后的玻璃外觀良好。

本發明的目的之二在于提供一種用于退除玻璃NCVM膜層的退鍍工藝，該工藝使用上述退鍍液對玻璃的NCVM膜層進行退鍍，具有與上述退鍍液相同的優勢，在常溫下使用該退鍍液即可有效退除NCVM膜層，造成過退幾率小，也不會損傷絲印油墨，退鍍后的玻璃外觀良好，良率高。此外，該退鍍工藝條件要求較低、操作簡便，得到的產品良率穩定。

本發明的目的之三在于提供一種包含采用上述退鍍液或采用上述退鍍工藝退鍍后的玻璃的玻璃制品。

為了實現本發明的上述目的，特采用以下技術方案：

第一方面，本發明提供了一種用于退除玻璃NCVM膜層的退鍍液，所述退鍍液按質量百分含量包括如下組分：50-70％濃度的硝酸15～25％，羧基酸類絡合劑2～5％，氨基磺酸10～15％，滲透劑1～3％，其余為水。

優選地，在本發明提供的技術方案的基礎上，所述退鍍液按質量百分含量包括如下組分：50-70％濃度的硝酸20～25％，羧基酸類絡合劑2～5％，氨基磺酸12～15％，滲透劑1～3％，其余為水。

優選地，在本發明提供的技術方案的基礎上，所述退鍍液按質量百分含量包括如下組分：50-70％濃度的硝酸20～25％，羧基酸類絡合劑3～5％，氨基磺酸12～14％，滲透劑1～2％，其余為水。

優選地，在本發明提供的技術方案的基礎上，所述羧基酸類絡合劑選自檸檬酸、草酸、酒石酸、葡萄糖酸或乙醇酸中的一種或幾種，優選檸檬酸。