[發明專利]使用193nm激光器的固態激光器及檢驗系統

有效

• 申請號: 201711153410.X
• 申請日: 2013-05-17
• 公開（公告）號: CN107887779B
• 公開（公告）日: 2019-09-24
• 發明（設計）人: 勇-霍·亞歷克斯·莊;J·約瑟夫·阿姆斯特朗;弗拉基米爾·德里賓斯基;約翰·費爾登
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: H01S3/00
• 分類號: H01S3/00;H01S3/108;H01S3/16;G02F1/35
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 張世俊

1.一種用于產生具有在200nm以下的輸出波長的激光器輸出光的激光器系統，所述激光器系統包含：

基諧波激光器，其經配置以產生具有基諧波頻率的基諧波光；

二次諧波產生器模塊，其耦合到所述基諧波激光器以使所述二次諧波產生器模塊接收所述基諧波光的至少第一部分，所述二次諧波產生器模塊經配置以產生具有等于所述基諧波頻率的兩倍的二次諧波頻率的二次諧波光；

光學參數OP模塊，其耦合到所述基諧波激光器以使所述OP模塊接收所述二次諧波光的第一部分，其中所述OP經配置以產生具有比所述基諧波頻率低的降頻轉換的頻率的降頻轉換的信號；

五次諧波產生器模塊，其耦合到所述基諧波激光器以使所述五次諧波產生器模塊接收所述二次諧波光的第二部分，其中所述五次諧波產生器模塊經配置以產生具有等于所述基諧波頻率的五倍的五次諧波頻率的五次諧波光；以及

混頻模塊，其光學地耦合以接收來自于所述OP模塊的所述降頻轉換的信號和來自于所述五次諧波產生器模塊的所述五次諧波光，并經配置以通過混合所述降頻轉換的信號和所述五次諧波光以產生所述激光器輸出光；

其中所述OP模塊包含光學參數振蕩器，所述光學參數振蕩器經配置以通過降頻轉換所述二次諧波光的所述第一部分以產生所述降頻轉換的信號，以及

其中所述OP模塊經配置以使所述降頻轉換的頻率和所述五次諧波頻率的總和產生具有所述在200nm以下的輸出波長的所述激光器輸出光。

2.如權利要求1所述的激光器系統，其中所述基諧波激光器包含摻釹釔鋁石榴石、摻釹釩酸釔以及釩酸釓與釩酸釔的摻釹混合物中的一者。

3.如權利要求1所述的激光器系統，其中所述基諧波激光器包含Q切換激光器、鎖模激光器及光纖激光器中的一者。

4.如權利要求1所述的激光器系統，其中所述基諧波激光器經配置以產生具有介于約1064.0nm與1064.6nm之間的基諧波長的所述基諧波光。

5.如權利要求1所述的激光器系統，其中所述OP模塊經配置以使所述降頻轉換的信號具有約等于所述基諧波頻率一半的閑頻信號頻率，由此所述降頻轉換的頻率和所述五次諧波頻率的總和產生具有等于所述基諧波頻率的約5.5倍的輸出頻率的所述激光器輸出光。

6.如權利要求1所述的激光器系統，其中所述五次諧波產生器模塊包含：

四次諧波產生器，其經配置以接收所述二次諧波頻率并使所述二次諧波頻率加倍且產生四次諧波頻率；以及

五次諧波產生器，其經配置以組合所述四次諧波頻率與未消耗基諧波頻率以產生所述五次諧波頻率。

7.如權利要求6所述的激光器系統，其中所述四次諧波產生器、所述五次諧波產生器以及所述混頻模塊中的至少一個包含氫退火硼酸鋰銫CLBO晶體。

8.如權利要求6所述的激光器系統，其中所述四次諧波產生器、所述五次諧波產生器，以及所述混頻模塊中的至少一個包含非線性光學晶體，以及

其中所述四次諧波產生器、所述五次諧波產生器和所述混頻模塊中的一個進一步包括光學組件，所述光學組件經配置以將輸入光束的光束腰聚焦到所述非線性光學晶體內部或附近的實質上橢圓形截面。

9.如權利要求1所述的激光器系統，其中所述五次諧波產生器模塊包含：

三次諧波產生器，其經配置以組合所述二次諧波頻率和所述基諧波光的第二部分以產生三次諧波頻率；以及

五次諧波產生器，其經配置以組合所述三次諧波頻率和所述三次諧波產生器的未消耗二次諧波頻率以產生五次諧波頻率。

10.如權利要求9所述的激光器系統，其中所述五次諧波產生器和所述混頻模塊中的至少一個包含氫退火硼酸鋰銫CLBO晶體。