[發明專利]使用193nm激光器的固態激光器及檢驗系統

有效

• 申請號: 201711145150.1
• 申請日: 2013-05-17
• 公開（公告）號: CN107887778B
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發明（設計）人: 勇-霍·亞歷克斯·莊;J·約瑟夫·阿姆斯特朗;弗拉基米爾·德里賓斯基;約翰·費爾登
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: H01S3/00
• 分類號: H01S3/00;H01S3/16;H01S3/23;G01N21/88;G01N21/956;G02F1/35
• 代理公司: 11287 北京律盟知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 張世俊

1.一種用于檢驗樣本的表面的檢驗系統，所述檢驗系統包括：

照明子系統，其經配置以產生多個光通道，所產生的每一光通道具有不同于至少一個其它光通道的特性，所述照明子系統包含經配置以發射大約193.368nm波長的入射光束的光源，所述光源包含：基諧波激光器，其經配置以產生具有大約1064nm的對應波長的基諧波頻率；五次諧波產生器模塊，其經配置以使用所述基諧波頻率以產生五次諧波頻率；光學參數OP模塊，其經配置以降頻轉換所述五次諧波產生器模塊的未消耗基諧波頻率且產生具有約等于所述基諧波頻率的一半諧波的頻率的OP輸出；及混頻模塊，其經配置以接收和組合所述五次諧波頻率與所述OP輸出以產生具有所述大約193.368nm波長光的入射光束；

光學器件，其經配置以接收所述多個光通道并將所述多個光通道組合成空間分離組合光束且引導所述空間分離組合光束朝向所述樣本；以及

數據獲取子系統，其包括經配置以檢測來自所述樣本的反射光的至少一個檢測器，

其中所述數據獲取子系統經配置以將所述反射光分離為對應于所述多個光通道的多個接收通道，以及

其中所述基諧波激光器包含摻釹釔鋁石榴石、摻釹釩酸釔以及釩酸釓與釩酸釔的摻釹混合物中的一者。

2.如權利要求1所述的檢驗系統，其中所述基諧波激光器包含Q切換激光器、鎖模激光器及連續波CW激光器中的一者。

3.如權利要求1所述的檢驗系統，其中所述五次諧波產生器模塊包含：

二次諧波產生器，其經配置以使所述基諧波頻率加倍且產生二次諧波頻率；

四次諧波產生器，其經配置以使所述二次諧波頻率加倍且產生四次諧波頻率；以及

五次諧波產生器，其經配置以組合所述四次諧波頻率與所述二次諧波產生器的未消耗基諧波頻率以產生所述五次諧波頻率。

4.如權利要求1所述的檢驗系統，其中所述五次諧波產生器模塊包含：

二次諧波產生器，其經配置以使所述基諧波頻率加倍且產生二次諧波頻率；

三次諧波產生器，其經配置以組合所述二次諧波頻率與所述二次諧波產生器的未消耗基諧波頻率以產生三次諧波頻率；以及

五次諧波產生器，其經配置以組合所述三次諧波頻率與所述三次諧波產生器的未消耗二次諧波頻率以產生所述五次諧波頻率。

5.如權利要求1所述的檢驗系統，其中所述OP模塊包含產生大約2127nm波長或大約2109.7nm波長的光的種子激光器。

6.如權利要求1所述的檢驗系統，其中所述OP模塊包含激光器二極管或光纖激光器。

7.如權利要求3所述的檢驗系統，其中所述二次諧波產生器、所述四次諧波產生器、所述五次諧波產生器以及所述混頻模塊中的至少一個包含氫退火硼酸鋰銫CLBO晶體。

8.如權利要求3所述的檢驗系統，其中所述四次諧波產生器、所述五次諧波產生器，以及所述混頻模塊中的至少一個包含非線性光學晶體，以及

其中所述第四次諧波產生器、所述五次諧波產生器和所述混頻模塊中的至少一個進一步包括光學組件，所述光學組件經配置以將輸入光束的光束腰聚焦到所述非線性光學晶體內部或附近的實質上橢圓形截面。