[發明專利]用于X射線管的光圈以及具有這種光圈的X射線管有效
| 申請號: | 201711144024.4 | 申請日: | 2017-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN108074786B | 公開(公告)日: | 2021-02-23 |
| 發明(設計)人: | A·舒 | 申請(專利權)人: | 依科視朗國際有限公司 |
| 主分類號: | H01J35/02 | 分類號: | H01J35/02;H01J35/24 |
| 代理公司: | 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 金輝 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 射線 光圈 以及 具有 這種 | ||
本發明涉及用于約束X射線管電子束5橫截面的光圈,具有第一材料制成的基體1和第二材料制成的附加本體2,基體具有第一圓柱形或錐形光圈孔10,附加本體具有第二圓柱形或錐形光圈孔20,安裝狀態下附加本體2置于近電子源的一側,第一材料原子序數大于第二材料原子序數,遠離電子源端的光圈孔徑10、20不小于近電子源端,遠離電子源端的第二光圈孔20完全坐落在接近電子源端的第一光圈孔10內。進一步,本發明涉及X射線管,尤其是微焦X射線管,具有引導電子束5到靶材9上的裝置,以及根據上述權利要求任一項的光圈,光圈置于電子束5傳播路徑上。
技術領域
本發明涉及一種用于約束X射線管的電子束橫截面的光圈,以及一種X射線管,尤其是一種微焦X射線管。
背景技術
在X射線管,尤其是在微焦X射線管的情景下,圖像品質因為光亮圓盤經常出現在所生成的X射線圖像這一事實而受損。圓盤由散射X輻射引起,而X輻射在電子撞擊X射線管的透鏡光圈的光圈本體時形成。透鏡光圈指的是本申請語境下的光圈。由于光圈本體必須耐高溫,因此特別地由金屬組成,當電子撞擊光圈本體時,且當使用更高能量的電子時,形成短波X輻射,其穿過靶材并將光圈針孔的圖像投影在圖像接收器上。
DE 10 2006 062 454 A1描述了一種微焦X射線管,利用光圈涂層解決了這個問題。光圈金屬涂覆有低原子序數的材料,以便減少漫輻射。此處的缺點是涂層通常僅在微米范圍內可用。例如,大約4μm的碳涂層是可行的。然而,在高能情況下,電子的穿透深度遠大于4μm,結果電子一直穿透到金屬中并產生漫輻射然而,光圈暴露在高熱載荷下。在已涂層光圈的情況下,這通常導致涂層剝落。
X射線管中的電子束瞄準儀可從US 3,227,880中了解到。這種瞄準儀構建成兩部分。其接近電子源的部分——第一部分——由低原子序數的材料組成,例如是鋁,而其遠離電子源的部分——第二部分——由高原子序數的材料組成,例如是鉛。原則上,形成貫穿這兩個部分的瞄準儀孔,使得其在電子源附近的入射側面積大于其遠離電子源的出射側面積;因此它沿電子束的射束方向收窄。瞄準儀孔具有第一孔部分(形成于第一部分內)和第二孔部分(形成于第二部分內)。在每一種情況下,兩個孔部分分別具有截錐形表面積。這些孔部分可形成為沿射束方向擴大或收窄。在遠離電子源的第一孔部分端部的第一孔形成為小于接近電子源的第二孔部分端部的第二孔,結果是沿射束方向存在臺階,該臺階延伸進電子束。或者,在每一種情況下孔部分沿射束方向收窄的情況下,第一孔和第二孔還能夠大小相同。在兩個實施例中,電子能夠撞擊第二部分并在該處產生漫輻射。
一種用在電子輻射方法中的灑施機光圈可從DE 10 2011 005 450 A1了解到。這種光圈構造為三層結構,其中面向電子束輻射方向的層由第一原子序數的第一金屬組成,第一原子序數小于中間層第二材料的第二原子序數,而第二原子序數轉而小于第三材料的第三原子序數,第三材料在背離電子輻射方向的層上。光圈孔形成為圓筒套的形狀。
發明內容
本發明的目的在于提供一種光圈以及具有這種光圈的X射線管,防止在X射線圖像上形成光亮圓盤。
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