[發明專利]一種聚晶立方氮化硼復合片及其制備方法有效
| 申請號： | 201711136967.2 | 申請日： | 2017-11-16 |
| 公開（公告）號： | CN108118297B | 公開（公告）日： | 2020-04-14 |
| 發明（設計）人： | 解亞軍;王彬彬;陳培 | 申請（專利權）人： | 富耐克超硬材料股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/32 | 分類號： | C23C14/32;C23C14/06;C23C24/08;C23C28/04 |
| 代理公司： | 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119 | 代理人： | 張兵兵 |
| 地址： | 450001 河南省鄭*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 立方 氮化 復合 及其 制備 方法 | ||
1.一種聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：在硬質合金表面涂覆結合劑涂層，然后將結合劑涂層和立方氮化硼粉體進行預壓在結合劑涂層上形成立方氮化硼層，加壓燒結，即得。
2.根據權利要求1所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：所述結合劑涂層的組成元素選自Ti、Al、Cr、Si、C、N中的至少三種。
3.根據權利要求1或2所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：所述結合劑涂層為Ti3AlC2、Ti2AlN、Ti2AlSiN、Ti3AlSiCrN、Ti3AlSiC、Ti2AlCN、Ti2SiCN或MaAbXc；所述MaAbXc中，M為Ti，A為Al、Cr、Si中的一種或多種，X為C、N中的一種或兩種；其中，a:b:c＝4:1:1～3。
4.根據權利要求3所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：所述結合劑涂層MaAbXc中，A由Al、Cr和Si組成，Al、Cr、Si的摩爾比為1～5:1～5:1～5；X由C和N組成，C和N的摩爾比為3～7:3～7。
5.根據權利要求1或2所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：在硬質合金表面涂覆結合劑涂層采用物理氣相沉積法。
6.根據權利要求1所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：所述立方氮化硼粉體的中位粒徑D50不超過2μm。
7.根據權利要求1所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：所述結合劑涂層的厚度為0.1～1mm。
8.根據權利要求1所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：預壓前的結合劑涂層與預壓后的立方氮化硼層的厚度之比為1:15～2:1。
9.根據權利要求1所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法，其特征在于：所述加壓燒結的壓力為4.5～7.0GPa，溫度為1300～1800℃，時間為3～40min。
10.一種采用如權利要求1所述的聚晶立方氮化硼復合片的制備方法制備得到的聚晶立方氮化硼復合片。
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