[發明專利]用于制造三維物體的設備

有效

• 申請號: 201711136196.7
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN109421275B
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: F·措伊爾納;C·迪肯;S·洪策
• 申請（專利權）人: CL產權管理有限公司
• 主分類號: B29C64/386
• 分類號: B29C64/386;B29C64/393;B29C64/153;B22F3/105;C04B35/64;B33Y10/00;B33Y50/00;B33Y50/02
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 徐穎聰

1.一種用于通過使用能量束(4)依次逐層地選擇性照射和固化多層建造材料(3)來添加式地制造三維物體(2)的設備(1)，所述設備包括：

構造成產生能量束(4)的照射裝置(5)，其中所述能量束(4)沿所述能量束(4)的光束路徑(6)傳播到建造平面(7)上，其中所述能量束(4)在至少一個固化區(8)中照射建造材料(3)，

探測裝置(11)，所述探測裝置構造成探測從與所述固化區(8)相鄰的至少一個相鄰區(9，10)發出的輻射(12b)或探測從所述固化區(8)發出的輻射(12a)和從相鄰區(9，10)發出的輻射(12b)；以及

掃描單元(13)，所述掃描單元構造成使從所述至少一個固化區(8)和/或所述至少一個相鄰區(9，10)發出的輻射(12a，12b)沿光束路徑(12)偏轉到所述探測裝置(11)，所述光束路徑(12)偏離所述能量束(4)沿其行進的光束路徑(6)。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述探測裝置(11)構造成探測至少一個固化區(8)和/或至少一個相鄰區(9，10)的溫度和/或確定至少一個固化區(8)與至少一個相鄰區(9，10)之間的溫度梯度。

3.根據權利要求2所述的設備，其特征在于具有控制單元(17)，所述控制單元構造成根據探測到的溫度和/或所確定的溫度梯度來調節或設定至少一個過程參數。

4.根據權利要求3所述的設備，其特征在于，所述控制單元(17)構造成根據超過預定閾值的探測到的溫度和/或所確定的溫度梯度來：降低至少一個固化區(8)中的溫度；和/或升高至少一個相鄰區(9，10)中的溫度；和/或減小至少一個固化區(8)與至少一個相鄰區(9，10)之間的溫度梯度。

5.根據權利要求3或4所述的設備，其特征在于，所述控制單元(17)構造成根據環境參數和/或所述能量束(4)的路徑速率和/或所述建造材料(3)的狀態來控制所述溫度和/或所述溫度梯度。

6.根據前述權利要求1-4中任一項所述的設備，其特征在于具有數據存儲器，所述數據存儲器構造成存儲至少一個參數。

7.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，通過將所述至少一個固化區(8)和/或所述至少一個相鄰區(9，10)在所述探測裝置(11)的測量單元(14)上成像，使所述掃描單元(13)與所述照射裝置(5)的構造成將所述能量束(4)引導到所述建造平面(7)上的至少一個束偏轉單元同步。

8.根據權利要求7所述的設備，其特征在于，所述探測裝置(11)包括至少一個光學元件(16)，所述光學元件構造成將所述至少一個固化區(8)和/或所述至少一個相鄰區(9，10)在所述測量單元上成像。

9.根據權利要求7或8所述的設備，其特征在于，所述測量單元(14)包括比色高溫計攝像機。

10.根據前述權利要求1-4中任一項所述的設備，其特征在于具有布置在所述建造平面(7)與所述探測裝置(11)之間的保護鏡(15)，其中所述保護鏡(15)的透射光譜在170nm至5000nm的范圍內。

11.根據權利要求10所述的設備，其特征在于，其中所述保護鏡(15)的透射光譜在400nm至2000nm的范圍內。

12.一種用于根據前述權利要求中任一項所述的設備(1)的探測裝置(11)，其中，所述探測裝置(11)構造成探測從與固化區(8)相鄰的至少一個相鄰區(9，10)發出的輻射(12b)或探測從所述固化區(8)發出的輻射(12a)和從所述相鄰區(9，10)發出的輻射(12b)，其中，使用掃描單元(13)將從所述固化區(8)和/或所述至少一個相鄰區(9，10)發出的輻射(12a，12b)沿光束路徑(12)偏轉到所述探測裝置(11)，所述光束路徑(12)偏離能量束(4)沿其行進的光束路徑(6)。