[發明專利]一種熱流道噴嘴

有效

• 申請號: 201711134219.0
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN108215086B
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 亞當·克里斯托弗·烏萊梅克;斯蒂芬·丹尼爾·費倫茨;馬切伊·布雷斯基;韋斯利·格羅夫
• 申請（專利權）人: 赫斯基注塑系統有限公司
• 主分類號: B29C45/27
• 分類號: B29C45/27
• 代理公司: 北京維澳專利代理有限公司 11252
• 代理人: 賈博雍;吳蘭柱

1.一種熱流道噴嘴，包括：

噴嘴主體；

在所述噴嘴主體中的環形出口通道；

在所述噴嘴主體中的所述環形出口通道上游的源通道；以及

將所述源通道與所述環形出口通道的部分環形段相互連接的所述噴嘴主體中的流過渡通道(126、226、326、500)，所述流過渡通道在下游方向上變寬并且具有不均勻的截面通道厚度；

所述流過渡通道是所述噴嘴主體中的多個相似流過渡通道的第一流過渡通道，所述多個流過渡通道布置成環形用于共同限定用于供應所述環形出口通道的環形熔體流；

所述流過渡通道由具有相應S形狀的一對相對的窄側壁(244、246、344、346、510、512)限定。

2.根據權利要求1所述的熱流道噴嘴，其中，所述不均勻的截面通道厚度包括不均勻的縱向截面通道厚度。

3.根據權利要求2所述的熱流道噴嘴，其中，所述通道厚度在下游方向上從輸入厚度(T1)向輸出厚度(T2)逐漸減小。

4.根據權利要求1所述的熱流道噴嘴，其中，所述不均勻的截面通道厚度包括不均勻的橫截面通道厚度。

5.根據權利要求4所述的熱流道噴嘴，其中，所述通道厚度在橫向方向上逐漸地從中心厚度(T5)增加到周邊厚度(T6)。

6.根據權利要求4或5所述的熱流道噴嘴，其中，所述不均勻的橫截面通道厚度處于流過渡通道的下游部分(243、343、543)在所述流過渡通道的出口(250、350、504)處或附近。

7.根據權利要求4所述的熱流道噴嘴，其中，所述不均勻的橫截面厚度至少部分地由與所述源通道橫向對準的通道厚度減小的區域(249、349、522)限定。

8.根據權利要求7所述的熱流道噴嘴，其中，所述通道厚度減小的區域在下游方向上具有長度(L1，L3)，大約是在所述下游方向的所述流過渡通道的長度(L2，L4)的三分之一。

9.根據權利要求7所述的熱流道噴嘴，其中，所述通道厚度減小的區域(249、349)在所述流過渡通道內橫向居中。

10.如權利要求7所述的熱流道噴嘴，其中，所述通道厚度減小的區域(522)在所述流過渡通道內橫向偏離中心。

11.根據權利要求7所述的熱流道噴嘴，其中，在所述通道厚度減小的區域中所述流過渡通道的厚度(T3)在所述通道的中心橫向長度(265)上是均勻的。

12.根據權利要求7至11中任一項所述的熱流道噴嘴，其中，所述通道厚度減小的區域至少部分地由所述流過渡通道內的阻塞構件(251、551)限定，以阻止熔融模制材料流過所述流過渡通道。

13.根據權利要求12所述的熱流道噴嘴，其中，所述阻塞構件在所述下游方向上變寬。

14.根據權利要求13所述的熱流道噴嘴，其中，所述阻塞構件基本上是三角形的。

15.根據權利要求1所述的熱流道噴嘴，其中，環形熔體流是中間環形熔體流，并且其中所述噴嘴主體包括：

被配置為限定內部流的內部通道結構；

被配置為限定圍繞所述內部流的外部環形流的外部通道結構；以及

被配置為限定在所述內部流與所述外部環形流之間的中間環形流的中間通道結構。

16.根據權利要求15所述的熱流道噴嘴，包括殼體(402)、裝配在所述殼體上的插入件(404)和裝配在所述插入件上方的尖端(406)，其中，所述殼體限定所述內部通道結構并與所述插入件共同限定所述中間通道結構，并且其中所述插入件與所述尖端配合以共同限定所述外部通道結構。