[發明專利]污染場地原位修復方法及系統

有效

• 申請號: 201711133828.4
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN107952790B
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發明（設計）人: 肖國俊;羅明森;王文坦;謝鵬
• 申請（專利權）人: 中冶南方都市環保工程技術股份有限公司
• 主分類號: B09C1/08
• 分類號: B09C1/08;C02F1/70;C02F101/20;C02F103/06
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 胡建文

1.一種污染場地原位修復方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一，向污染場地待修復介質中注入還原劑，使待修復介質中的三價鐵至少部分地被還原為二價鐵離子；

步驟二，向待修復介質中注入氧化藥劑，所述氧化藥劑在二價鐵離子的活化作用下對所述待修復介質進行修復；

所采用的氧化藥劑的配制過程包括：

抽取待修復場地的地下水，向該抽取水中加入硼氫化鉀或硼氫化鈉，使得該部分抽取水中的三價鐵離子被還原為二價鐵離子；將還原后的抽取水加入氧化藥劑配制罐中，一方面作為配水使用，另一方面提供氧化藥劑所需的活化作用。

2.如權利要求1所述的污染場地原位修復方法，其特征在于：所述還原劑包括硼氫化鉀或硼氫化鈉。

3.如權利要求2所述的污染場地原位修復方法，其特征在于：所述還原劑還包括絡合劑。

4.如權利要求1所述的污染場地原位修復方法，其特征在于：所述氧化藥劑包括過硫酸鹽或雙氧水。

5.如權利要求1所述的污染場地原位修復方法，其特征在于：注入還原劑之后間隔15～48h再注入氧化藥劑。

6.一種實現如權利要求1至5中任一項所述的污染場地原位修復方法的污染場地原位修復系統，其特征在于：包括還原劑注入單元和氧化藥劑注入單元，所述還原劑注入單元和所述氧化藥劑注入單元均包括藥劑配制機構和藥劑注射機構，所述藥劑配制機構與對應的所述藥劑注射機構通過藥劑輸送機構連接。

7.如權利要求6所述的污染場地原位修復系統，其特征在于：兩所述藥劑配制機構均包括兩個藥劑配制罐，兩所述藥劑配制罐的出水管均與對應的所述藥劑輸送機構連接，各所述出水管上均設有第一控制閥。

8.如權利要求7所述的污染場地原位修復系統，其特征在于：各所述藥劑配制罐均連接有藥劑回流管，各所述藥劑回流管旁接于對應的所述藥劑輸送機構上，每一所述藥劑回流管上沿藥劑回流方向依次設有第二控制閥和流量調節閥。

9.如權利要求7所述的污染場地原位修復系統，其特征在于：兩所述藥劑配制機構均還包括傳送機和用于盛裝固體藥劑的藥劑斗，所述傳送機包括主傳輸部、兩分支傳輸部以及用于控制所述主傳輸部與兩所述分支傳輸部切換導通的切換結構，所述主傳輸部與對應的所述藥劑斗銜接，兩所述分支傳輸部分別延伸至對應的兩所述藥劑配制罐的固體藥劑入口處。

10.如權利要求9所述的污染場地原位修復系統，其特征在于：所述主傳輸部與兩所述分支傳輸部均為輸料管且連接形成一Y形結構，所述主傳輸部的軸線與對應的兩所述分支主傳輸部的軸線位于同一基準平面內，所述切換結構包括閘板，所述閘板可轉動安裝于對應的所述Y形結構的三通交匯口處且轉軸軸向垂直于所述基準平面。