[發明專利]一種平面光柵干涉儀位移測量系統有效
| 申請號: | 201711116885.1 | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN108106536B | 公開(公告)日: | 2023-10-10 |
| 發明(設計)人: | 朱煜;王磊杰;張鳴;夏野;成榮;葉偉楠;楊開明;倪暢;丁思奇;賈喆;李情情;王雨竹 | 申請(專利權)人: | 清華大學;北京華卓精科科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02;G01B9/02015;G01D5/26;G01D5/38 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更巖 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區1*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平面 光柵 干涉儀 位移 測量 系統 | ||
1.一種平面光柵干涉儀位移測量系統,包括單頻激光器(1)、分束器(2a、2b、2c)、光柵干涉儀(3)、平面光柵(4)、聲光調制器(5a、5b)、接收器(6)、電子信號處理部件(7)、光纖耦合器(8)和頻率合成器(9);其特征在于:光柵干涉儀(3)包括偏振分光鏡(31)、折光元件(32)、第一直角棱鏡(33)、第二直角棱鏡(34)和第三直角棱鏡(35)、四分之一波片(36);其中第一直角棱鏡(33)位于偏振分光鏡(31)頂端,第二直角棱鏡(34)與第三直角棱鏡(35)并排放置在偏振分光鏡(31)的底端;單頻激光器(1)出射的單頻激光經分束器(2a)分光后,分別經過由頻率合成器(9)供源的第一聲光調制器(5a)和第二聲光調制器(5b)進行調制后,分別經第二分束器(2b)和第三分束器(2c)分光后,其中,經第二分束器(2b)分出的一束激光和第三分束器(2c)分出的一束激光經光纖耦合器(8)進行干涉后,作為補償軸信號輸入至接收器(6),處理后形成一路電信號輸入至電子信號處理部件(7);另外兩束激光則入射至偏振分光鏡(31)后分光,兩束反射光為參考光,兩束透射光為測量光;
所述兩束測量光第一次經四分之一波片(36)和折光元件(32)后以利特羅角入射至平面光柵(4),反射后第二次經折光元件(32)和四分之一波片(36)入射至偏振分光鏡(31),反射后兩束測量光分別經過第二直角棱鏡(34)和第三直角棱鏡(35),回射至偏振分光鏡(31),再次反射后經折光元件(32)和四分之一波片(36)后再次以利特羅角入射至平面光柵(4),反射后再次經折光元件(32)和四分之一波片(36)后入射至偏振分光鏡,透射后兩束測量光平行出射;
所述兩束參考光經第一直角棱鏡(33)后回射至偏振分光鏡(31),反射后兩束參考光平行出射;
其中一束參考光和一束測量光干涉形成一路干涉光信號,另一束參考光和另一束測量光干涉形成另一路干涉光信號,兩路干涉光信號分別經光纖傳輸至接收器(6)進行處理分別形成兩路測量電信號,兩路測量電信號輸入至電子信號處理部件(7)進行處理。
2.根據權利要求1所述的一種平面光柵干涉儀位移測量系統,其特征在于:平面光柵(4)采用二維反射型光柵。
3.根據權利要求1所述的一種平面光柵干涉儀位移測量系統,其特征在于:折光元件采用截面為等腰梯形的折射鏡(32a)。
4.根據權利要求1所述的一種平面光柵干涉儀位移測量系統,其特征在于:折光元件采用兩個反射鏡(32b)。
5.根據權利要求1所述的一種平面光柵干涉儀位移測量系統,其特征在于:折光元件采用透鏡(32c)。
6.根據權利要求1所述的一種平面光柵干涉儀位移測量系統,其特征在于:第二直角棱鏡(34)和第三直角棱鏡(35)采用平行并列布置。
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