[發(fā)明專利]非對稱鰭內(nèi)存晶體管及其形成方法、半導(dǎo)體器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711116015.4 | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN107680969B | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人: | 長鑫存儲技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/108 | 分類號: | H01L27/108;H01L21/8242 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 內(nèi)存晶體管 非對稱 字線 半導(dǎo)體器件 誘發(fā) 電場 漏電流 側(cè)邊 源區(qū) 制程 鰭部 覆蓋 | ||
1.一種非對稱鰭內(nèi)存晶體管,其特征在于,包括:
一襯底,具有多個有源區(qū),形成于所述襯底中;
隔離結(jié)構(gòu),形成于所述襯底中并圍繞所述有源區(qū),多個所述有源區(qū)排布成多排;以及,
多條字線,形成于所述襯底中,所述多條字線穿過所述隔離結(jié)構(gòu)和所述有源區(qū),且所述字線的底部覆蓋在所述有源區(qū)側(cè)邊的鰭部兩端長度不相同,以改善漏電流,每條所述字線穿過多排有源區(qū)、相鄰排所述有源區(qū)之間的所述隔離結(jié)構(gòu)以及在同一排中相鄰的兩個所述有源區(qū)之間的所述隔離結(jié)構(gòu);
其中,對于同一條字線,在相鄰排中的兩個所述有源區(qū)之間的所述字線的底部距離所述字線在所述有源區(qū)的底部的高度差值為a,在同一排中相鄰的兩個所述有源區(qū)之間的所述字線的底部距離所述字線在所述有源區(qū)的底部的高度差值為b,其中,a≠b,且|a-b|≥0.5*Min(a,b),其中Min(a,b)表示取a和b中的較小者,當(dāng)a>b,則1nm≤a≤500nm,0.5nm≤b≤300nm,當(dāng)a<b,則0<a≤300nm,0.5nm≤b≤500nm。
2.如權(quán)利要求1所述的非對稱鰭內(nèi)存晶體管,其特征在于,每一排中所有的所述有源區(qū)的排布方向與所述有源區(qū)的長度方向呈銳角,相鄰排的有源區(qū)平行排列。
3.如權(quán)利要求1所述的非對稱鰭內(nèi)存晶體管,其特征在于,所述隔離結(jié)構(gòu)包括位于所述有源區(qū)的側(cè)壁上的第一隔離材料層,所述第一隔離材料層的厚度為1~200nm。
4.如權(quán)利要求3所述的非對稱鰭內(nèi)存晶體管,其特征在于,所述隔離結(jié)構(gòu)還包括位于所述第一隔離材料層上的第二隔離材料層,所述第一隔離材料層和所述第二隔離材料層具有不同刻蝕選擇比,所述第一隔離材料層同時形成于在相鄰排所述有源區(qū)之間的所述字線的底部和在同一排中相鄰的兩個所述有源區(qū)之間的所述字線的底部,所述第二隔離材料層僅形成在相鄰排所述有源區(qū)之間的所述字線的底部。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的非對稱鰭內(nèi)存晶體管,其特征在于,相鄰所述有源區(qū)之間在所述字線延伸方向形成有第一間距和第二間距,所述第一間距大于所述第二間距,所述隔離結(jié)構(gòu)的頂部在所述第一間距的區(qū)段高度較高于在所述第二間距的區(qū)段高度,使得所述字線的底部在所述有源區(qū)對應(yīng)所述第一間距的側(cè)邊長度小于對應(yīng)所述第二間距的側(cè)邊長度。
6.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的非對稱鰭內(nèi)存晶體管,其特征在于,相鄰所述有源區(qū)之間在所述字線延伸方向形成有第一間距和第二間距,所述第一間距大于所述第二間距,所述隔離結(jié)構(gòu)的頂部在所述第一間距的區(qū)段高度較低于在所述第二間距的區(qū)段高度,使得所述字線的底部在所述有源區(qū)對應(yīng)所述第一間距的側(cè)邊長度大于對應(yīng)所述第二間距的側(cè)邊長度。
7.一種非對稱鰭內(nèi)存晶體管的形成方法,其特征在于,包括:
提供一襯底;
形成隔離結(jié)構(gòu)在所述襯底中,所述隔離結(jié)構(gòu)圍繞出多個有源區(qū),多個所述有源區(qū)排布成多排;以及,
形成多條字線在所述襯底中,所述多條字線穿過所述隔離結(jié)構(gòu)和所述有源區(qū),且所述字線的底部覆蓋在所述有源區(qū)側(cè)邊的鰭部兩端長度不相同,以改善漏電流,每條所述字線穿過多排有源區(qū)、相鄰排所述有源區(qū)之間的所述隔離結(jié)構(gòu)以及在同一排中相鄰的兩個所述有源區(qū)之間的所述隔離結(jié)構(gòu);
其中,對于同一條字線,在相鄰排中的兩個所述有源區(qū)之間的所述字線的底部距離所述字線在所述有源區(qū)的底部的高度差值為a,在同一排中相鄰的兩個所述有源區(qū)之間的所述字線的底部距離所述字線在所述有源區(qū)的底部的高度差值為b,其中,a≠b,且|a-b|≥0.5*Min(a,b),其中Min(a,b)表示取a和b中的較小者,當(dāng)a>b,則1nm≤a≤500nm,0.5nm≤b≤300nm,當(dāng)a<b,則0<a≤300nm,0.5nm≤b≤500nm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于長鑫存儲技術(shù)有限公司,未經(jīng)長鑫存儲技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711116015.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 自內(nèi)存胞元鐵電晶體管中讀出及存入狀態(tài)之方法及記憶矩陣
- 主機板雙倍數(shù)據(jù)處理速度內(nèi)存的直流電源供應(yīng)電路
- 具有自組裝聚合物薄膜的內(nèi)存裝置及其制造方法
- 具有磁性內(nèi)存的集成電路
- 具有快閃內(nèi)存的儲存裝置及快閃內(nèi)存的儲存方法
- 只讀內(nèi)存單元陣列結(jié)構(gòu)
- 背柵極式非易失性內(nèi)存單元
- 非揮發(fā)性內(nèi)存及程序化內(nèi)存數(shù)組的方法
- 具有改良感測的磁電阻內(nèi)存結(jié)構(gòu)及相關(guān)感測方法
- 近內(nèi)存計算系統(tǒng)及非揮發(fā)性內(nèi)存單元





