[發(fā)明專利]一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711115996.0
• 申請日: 2017-11-13
• 公開（公告）號: CN107891203B
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王祥志;張?zhí)?/a>;干為民;肖華星;徐夢廓;江煒;黃亮;徐波
• 申請（專利權(quán)）人: 常州工學(xué)院
• 主分類號: B23H5/08
• 分類號: B23H5/08
• 代理公司: 南京知識律師事務(wù)所 32207
• 代理人: 高桂珍

1.一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工方法，其特征在于：包括以下步驟：

a、構(gòu)建活鈍交替拋光加工系統(tǒng)：構(gòu)建活性電解液電解單元和鈍性電解液電解單元，將活性電解液電解單元和鈍性電解液電解單元布置在回轉(zhuǎn)體工件的外圍，以便向工件噴射活性電解液和鈍性電解液，并在每個活性電解液電解單元與鈍性電解液電解單元之間設(shè)置機(jī)械光整機(jī)構(gòu)；

b、轉(zhuǎn)動工件，進(jìn)行拋光加工，該拋光加工包括以下分步驟：

b-1、工件與鈍性電解液電解單元中的鈍性電解液接觸，在鈍性電解液的作用下生成鈍化層，對工件表面進(jìn)行保護(hù)，使工件表面低凹部分的溶解得到抑制；

b-2、由機(jī)械光整機(jī)構(gòu)將工件表面高凸部分的鈍化層刮除，露出新的表面；

b-3、新的表面與活性電解液電解單元中的活性電解液接觸，在電化學(xué)溶解的作用下溶解蝕除；

b-4、重復(fù)進(jìn)行上述步驟b-1至b-3，直至工件表面達(dá)到加工要求。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工方法，其特征在于：所述的活性電解液和鈍性電解液均為一種組分或者多種組分組合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工方法，其特征在于：每個電解單元設(shè)有獨立的電解液循環(huán)系統(tǒng)，用以控制電解液進(jìn)行循環(huán)流動工作，并控制電解液的流速。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工方法，其特征在于：每個電解單元還獨立設(shè)置有電解液濃度、溫度控制系統(tǒng)，以實現(xiàn)對電解液濃度和溫度參數(shù)的控制。

5.一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工裝置，包括電源(1)、工件(2)和陰極工件，所述的工件(2)與電源(1)的正極連接，所述的陰極工件與電源(1)的負(fù)極連接，其特征在于：還包括機(jī)械光整機(jī)構(gòu)和多個用于為工件(2)提供電解液的電解單元，所述的電解單元包括用于加速溶解蝕除工件(2)表層的活性電解液電解單元(4)和用于生成鈍化膜從而保護(hù)工件(2)的鈍性電解液電解單元(5)，所述的機(jī)械光整機(jī)構(gòu)包括由彈性接觸輔助裝置驅(qū)動的磨頭(3)，用以與工件(2)產(chǎn)生相對接觸摩擦從而刮除工件(2)表面高凸部分的鈍化層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工裝置，其特征在于：每個所述的電解單元均設(shè)有獨立的電解液循環(huán)與參數(shù)控制系統(tǒng)，用以控制電解液進(jìn)行循環(huán)流動工作，并控制電解液的流速。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工裝置，其特征在于：每個所述的電解單元還獨立設(shè)置有電解液濃度、溫度控制系統(tǒng)，用以控制電解液濃度和溫度參數(shù)。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種回轉(zhuǎn)體活鈍交替電化學(xué)機(jī)械高效拋光加工裝置，其特征在于：所述的活性電解液電解單元(4)和鈍性電解液電解單元(5)相間分布在工件(2)的外圍，所述的機(jī)械光整機(jī)構(gòu)設(shè)于每個活性電解液電解單元(4)和鈍性電解液電解單元(5)之間。