[發(fā)明專利]納米發(fā)電機(jī)以及具有該納米發(fā)電機(jī)的紡織品和防水設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711114786.X | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN109787503A | 公開(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賴盈至;蕭勇麒;其他發(fā)明人請求不公開姓名 | 申請(專利權(quán))人: | 北京納米能源與系統(tǒng)研究所 |
| 主分類號: | H02N1/04 | 分類號: | H02N1/04 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283 | 代理人: | 劉虎;王亞男 |
| 地址: | 100083 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米發(fā)電機(jī) 摩擦單元 摩擦層 第二電極 第一電極 防水設(shè)備 紡織品 導(dǎo)電紡織品 摩擦起電 有效地 靈敏 配合 | ||
本發(fā)明公開了一種納米發(fā)電機(jī)以及具有該納米發(fā)電機(jī)的紡織品和防水設(shè)備。所述納米發(fā)電機(jī)包括:第一摩擦單元,所述第一摩擦單元包括第一電極層;和第二摩擦單元,所述第二摩擦單元包括第二摩擦層以及設(shè)在所述第二摩擦層上的第二電極層,其中,所述第一摩擦單元與所述第二摩擦層配合以便摩擦起電,所述第一電極層和所述第二電極層中的至少一個(gè)為導(dǎo)電紡織品層。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的納米發(fā)電機(jī)具有實(shí)用性強(qiáng)、反應(yīng)靈敏、更加充分地、有效地利用外界的能量等優(yōu)點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及能量轉(zhuǎn)化領(lǐng)域,具體地,涉及納米發(fā)電機(jī),還涉及具有該納米發(fā)電機(jī)的紡織品和防水設(shè)備。
背景技術(shù)
納米發(fā)電機(jī)可以將環(huán)境中普遍存在的微小機(jī)械能轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔?,從而可以提供新型、高功率、低成本、環(huán)境友好的二次能源。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,提供納米發(fā)電機(jī)以及具有該納米發(fā)電機(jī)的紡織品和防水設(shè)備。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明第一方面提供一種納米發(fā)電機(jī),所述納米發(fā)電機(jī)包括:第一摩擦單元,所述第一摩擦單元包括第一電極層;和第二摩擦單元,所述第二摩擦單元包括第二摩擦層以及設(shè)在所述第二摩擦層上的第二電極層,其中,所述第一摩擦單元與所述第二摩擦層配合以便摩擦起電,所述第一電極層和所述第二電極層中的至少一個(gè)為導(dǎo)電紡織品層。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的納米發(fā)電機(jī)通過使第一電極層和第二電極層中的至少一個(gè)為導(dǎo)電紡織品層,從而可以利用納米發(fā)電機(jī)直接制成紡織品或者以外加組件的形式置于紡織品(例如雨傘、遮雨棚、雨衣、服裝、鞋或旗幟等)上,即該紡織品可以包括納米發(fā)電機(jī),由此可以極大地提高納米發(fā)電機(jī)的實(shí)用性,易于實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。
而且,由于第一電極層和第二電極層中的至少一個(gè)為導(dǎo)電紡織品層,因此納米發(fā)電機(jī)具有一定的柔性和韌性。與現(xiàn)有的利用塊材制造的納米發(fā)電機(jī)相比,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的納米發(fā)電機(jī)對微小力量的反應(yīng)會(huì)更加明顯,從而可以更加充分地、有效地利用外界的能量。
因此,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的納米發(fā)電機(jī)具有實(shí)用性強(qiáng)、反應(yīng)靈敏、更加充分地、有效地利用外界的能量的優(yōu)點(diǎn)。
優(yōu)選地,所述導(dǎo)電紡織品層為導(dǎo)電布層;優(yōu)選地,所述導(dǎo)電布層的厚度為400μm-600μm,所述導(dǎo)電布層由包括不銹鋼纖維和聚脂纖維編織的導(dǎo)電布制成。
優(yōu)選地,所述第二摩擦層為凝膠層,優(yōu)選地,所述第二摩擦層為硅膠層或樹脂層。
優(yōu)選地,所述第二摩擦層的一部分滲入到所述第二電極層內(nèi)。
優(yōu)選地,所述第二摩擦層包括:本體,所述本體具有相對的第一表面和第二表面,所述第二電極層設(shè)在所述本體的第一表面上;和多個(gè)彈性的摩擦凸起,多個(gè)所述摩擦凸起間隔開地設(shè)在所述本體的第二表面上。
優(yōu)選地,每個(gè)所述摩擦凸起的高度大于等于1毫米且小于2毫米。
優(yōu)選地,所述第二表面的未設(shè)置所述摩擦凸起的部分的面積與所述第二表面的面積之比大于等于78%且小于等于95%。
優(yōu)選地,每個(gè)所述摩擦凸起的豎直截面為三角形或者矩形。
優(yōu)選地,所述第二摩擦層的厚度小于等于2毫米。
優(yōu)選地,所述納米發(fā)電機(jī)進(jìn)一步包括隔離層,所述隔離層設(shè)在第一摩擦單元與第二摩擦單元之間;所述隔離層包括所述摩擦凸起可以穿透的孔洞;優(yōu)選地,所述隔離層的厚度為33μm-60μm。
優(yōu)選地,所述隔離層為隔離網(wǎng),所述隔離網(wǎng)包括多個(gè)所述摩擦凸起能夠穿過的網(wǎng)孔。
優(yōu)選地,所述第一摩擦單元還包括第一摩擦層,所述第一電極層設(shè)在所述第一摩擦層上,使所述第一摩擦層面向所述第二摩擦層設(shè)置。
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