[發(fā)明專利]蝕刻液組合物、蝕刻方法及陣列基板的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711108625.X
• 申請(qǐng)日: 2017-11-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108070376A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉仁浩;金范洙;南基龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東友精細(xì)化工有限公司
• 主分類號(hào): C09K13/08
• 分類號(hào): C09K13/08;C23F1/16;H01L21/77
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 金鮮英;宋海花

本發(fā)明提供蝕刻液組合物、蝕刻方法及陣列基板的制造方法。該蝕刻液組合物為多層膜用蝕刻液組合物，包含A)過(guò)硫酸鹽、B)氟化合物、C)無(wú)機(jī)酸、D)有機(jī)酸、E)亞磷酸和F)硝酸鐵。本發(fā)明通過(guò)提供能夠利用一種化學(xué)試劑將為了今后的多功能化而由多種金屬和多層膜形成的配線一并蝕刻的蝕刻液，從而提供能夠縮短整體工序時(shí)間且降低成本的多層膜用蝕刻液組合物。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在用作像素電極的鈦/銦氧化膜/銀/銦氧化膜的蝕刻工序中所使用的多層膜用蝕刻液組合物、利用該多層膜用蝕刻液組合物的蝕刻方法、及利用該蝕刻方法的顯示裝置用TFT陣列基板的制造方法。

背景技術(shù)

液晶顯示元件(liquid crystal display device，LCD device)由于能夠因優(yōu)異的分辨率而提供清晰的影像、耗電少、能夠較薄地制造顯示器畫(huà)面的特性而在平板顯示裝置中受到格外關(guān)注。近年來(lái)，作為驅(qū)動(dòng)這樣的液晶等中所使用的顯示元件的電路，代表性的是薄膜晶體管(thin film transistor，TFT)電路，典型的薄膜晶體管液晶顯示(TFT-LCD)元件構(gòu)成顯示畫(huà)面的像素(pixel)。TFT-LCD元件中，用作開(kāi)關(guān)元件的TFT通過(guò)在以矩陣形態(tài)排列的TFT用基板和相對(duì)于該基板的濾色器基板之間填充液晶物質(zhì)而制造。TFT-LCD的整體制造工序大體分為TFT基板制造工序、濾色器工序、液晶盒工序、模塊工序，在顯示精確且清晰的影像方面，TFT基板和濾色器制造工序的重要性最大。

如果想要實(shí)現(xiàn)像素顯示電極中所期望的電路的線路，則需要按照電路圖案來(lái)刮削薄膜層的蝕刻(etching)工序。

但是，以往的蝕刻液組合物雖然對(duì)于主要將主配線蒸鍍(depositon)于阻擋(Barrier)膜質(zhì)而制造的雙層膜能夠一并蝕刻，但對(duì)于金屬種類稍多且較多層地蒸鍍的配線不易通過(guò)濕式蝕刻工序進(jìn)行一并蝕刻。具體而言，四層膜的情況下，對(duì)于全部四層膜均應(yīng)當(dāng)維持相同的蝕刻量，但由于與四層膜對(duì)應(yīng)的各個(gè)膜的蝕刻速度均不同，因此發(fā)生由于各個(gè)膜不同的蝕刻速度而導(dǎo)致無(wú)法被均勻蝕刻的問(wèn)題。

另一方面，韓國(guó)公開(kāi)專利第10-2011-0057644號(hào)公開(kāi)了作為主氧化劑使用過(guò)硫酸鹽而未使用過(guò)氧化氫進(jìn)行鈦-銅雙層膜蝕刻的蝕刻液組合物，但上述公開(kāi)專利的組合物存在對(duì)于以雙層膜以上的多層蒸鍍而成的配線無(wú)法通過(guò)濕式蝕刻工序進(jìn)行一并蝕刻的問(wèn)題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

韓國(guó)公開(kāi)專利第10-2011-0057644號(hào)

發(fā)明內(nèi)容

所要解決的課題

本發(fā)明的目的在于，通過(guò)提供能夠利用一種化學(xué)試劑將包含用作顯示裝置用TFT陣列基板的像素電極的銦氧化膜的多層膜等為了今后的多功能化而由多種金屬和多層膜形成的配線一并蝕刻的蝕刻液，從而提供能夠縮短整體工序時(shí)間且降低成本的提高薄膜晶體管-顯示元件的驅(qū)動(dòng)特性的多層膜用蝕刻液組合物、利用該多層膜用蝕刻液組合物的蝕刻方法、及利用該蝕刻方法的顯示裝置用TFT陣列基板的制造方法。

解決課題的方法

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供包含A)過(guò)硫酸鹽、B)氟化合物、C)無(wú)機(jī)酸、D)有機(jī)酸、E)亞磷酸和F)硝酸鐵的多層膜用蝕刻液組合物。

本發(fā)明通過(guò)提供能夠利用一種化學(xué)試劑將包含用作顯示裝置用TFT陣列基板的像素電極的銦氧化膜的多層膜等為了今后的多功能化而由多種金屬和多層膜形成的配線一并蝕刻的蝕刻液，從而提供能夠縮短整體工序時(shí)間且降低成本的提高薄膜晶體管-顯示元件的驅(qū)動(dòng)特性的多層膜用蝕刻液組合物、利用該多層膜用蝕刻液組合物的蝕刻方法、及利用該蝕刻方法的顯示裝置用TFT陣列基板的制造方法。

本發(fā)明提供多層膜蝕刻方法，包括：(1)在基板上形成多層膜的步驟；(2)在上述多層膜上選擇性留下光反應(yīng)物質(zhì)的步驟；及(3)利用上述多層膜用蝕刻液組合物蝕刻上述多層膜的步驟。