[發明專利]一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法

有效

• 申請號: 201711107929.4
• 申請日: 2017-11-10
• 公開（公告）號: CN107870290B
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發明（設計）人: 劉青;鄧軍波;朱明曉;王彥博;張冠軍;郭安祥;劉孝為
• 申請（專利權）人: 西安交通大學;國家電網公司;國網陜西省電力公司電力科學研究院
• 主分類號: G01R31/12
• 分類號: G01R31/12;G01S3/00
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 閔岳峰

1.一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)對任意平面陣列建立坐標系，令該平面陣列的幾何中心位于坐標原點處；

2)用克拉美羅下界評估該平面陣列的測向精度，需首先根據各天線的坐標計算三個重要參數：幅值、直流偏移和初相；

3)列出克拉美羅下界關于真實方位角、真實俯仰角的函數表達式，據此繪制克拉美羅下界關于真實方位角和真實俯仰角的關系曲線，若在某個真實方位角、真實俯仰角的范圍內克拉美羅下界相對較小，則該處測向精度相對較高。

2.根據權利要求1所述的一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法，其特征在于，步驟1)中所述任意平面陣列是在平面上任意布置的包含N個陣元的平面陣列，陣元為特高頻天線。

3.根據權利要求2所述的一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法，其特征在于，步驟1)中，該平面陣列的幾何中心的陣元坐標(x₀，y₀)的計算公式如下

式中，x_i和y_i分別是第i個陣元的橫坐標和縱坐標，i＝1…N，N為陣元數目。

4.根據權利要求1所述的一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法，其特征在于，步驟2)中，克拉美羅下界即測向系統所能達到的最小測向誤差，其能夠將測向精度量化，且克拉美羅下界數值越小，測向精度越高。

5.根據權利要求3所述的一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法，其特征在于，步驟2)中，幅值A、直流偏移B和初相γ的定義如下式：

6.根據權利要求5所述的一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法，其特征在于，步驟3)中，克拉美羅下界關于真實方位角和真實俯仰角的函數表達式，包含方位角的克拉美羅下界χ₁(θ，φ)和俯仰角的克拉美羅下界χ₂(θ，φ)關于真實方位角θ和真實俯仰角φ的函數表達式，如下式：

7.根據權利要求6所述的一種適用于任意平面陣列的測向精度分析方法，其特征在于，步驟3)中，繪制克拉美羅下界關于真實方位角和真實俯仰角的關系曲線，共包含四條關系曲線，即方位角的克拉美羅下界關于真實方位角的關系曲線、方位角的克拉美羅下界關于真實俯仰角的關系曲線、俯仰角的克拉美羅下界關于真實方位角的關系曲線以及俯仰角的克拉美羅下界關于真實俯仰角的關系曲線。