[發(fā)明專利]衍射光學(xué)元件和干涉測(cè)量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711103826.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107816939B | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J.赫茨勒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | G01B9/02 | 分類號(hào): | G01B9/02;G01M11/00;G01M11/02 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 張邦帥;邱軍 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 衍射 光學(xué) 元件 干涉 測(cè)量方法 | ||
1.一種用于確定光學(xué)元件的光學(xué)表面的實(shí)際形狀與預(yù)期形狀的偏差的方法,包含以下步驟:
-產(chǎn)生輸入波;
-將衍射光學(xué)元件布置在所述輸入波的光束路徑中,使得通過與所述衍射光學(xué)元件的相互作用將所述輸入波轉(zhuǎn)換為至少測(cè)量波,所述測(cè)量波適配于所述光學(xué)表面的預(yù)期形狀,并且在衍射光學(xué)元件處以Littrow反射從輸入波產(chǎn)生參考波;
-將所述光學(xué)表面布置在適配的測(cè)量波的光束路徑中,并且使用參考波作為參考通過干涉測(cè)量在與所述光學(xué)表面相互作用之后測(cè)量所適配的測(cè)量波的波前。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,
其中,所述輸入波通過與所述衍射光學(xué)元件的相互作用還被轉(zhuǎn)換為至少一個(gè)校準(zhǔn)波。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,
其中,所述衍射光學(xué)元件包含復(fù)雜編碼的位相光柵。
4.一種衍射光學(xué)元件,具有基板和布置在其上的衍射結(jié)構(gòu)圖案,其中,所述衍射結(jié)構(gòu)圖案構(gòu)造為將輻射至其上的平面或球面輸入波轉(zhuǎn)換為至少非球面輸出波,所述非球面輸出波適配于要測(cè)量的光學(xué)表面的預(yù)期形狀,所述衍射結(jié)構(gòu)還構(gòu)造為以Littrow反射從輸入波產(chǎn)生參考波,所述參考波構(gòu)造成用作參考,以通過干涉測(cè)量在與光學(xué)表面相互作用之后測(cè)量非球面輸出波的波前。
5.如權(quán)利要求4所述的衍射光學(xué)元件,構(gòu)造為將輸出波還轉(zhuǎn)換為平面波或球面波形式的至少一個(gè)校準(zhǔn)波。
6.一種用于確定光學(xué)元件的光學(xué)表面的實(shí)際形狀與預(yù)期形狀的偏差的干涉測(cè)量系統(tǒng),包括:
-光源,用于產(chǎn)生輸入波;
-衍射光學(xué)元件,布置在所述輸入波的光束路徑中,使得通過與所述衍射光學(xué)元件的相互作用將所述輸入波轉(zhuǎn)換為至少測(cè)量波,所述測(cè)量波適配于所述光學(xué)表面的預(yù)期形狀,并且在衍射光學(xué)元件處以Littrow反射從輸入波產(chǎn)生參考波;以及
-干涉儀,用于使用參考波作為參考在與所述光學(xué)表面相互作用之后測(cè)量所適配的測(cè)量波的波前。
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