[發(fā)明專利]半片式可磨銑強(qiáng)磁打撈器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711102800.4 | 申請日: | 2017-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN108005604A | 公開(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蘭乘宇;史健博;李剛;劉國軍;王彪;李艷秋 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油天然氣股份有限公司;大慶油田有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | E21B31/06 | 分類號: | E21B31/06 |
| 代理公司: | 大慶知文知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23115 | 代理人: | 張海霞 |
| 地址: | 100007 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半片式可磨銑強(qiáng)磁 打撈 | ||
本發(fā)明公開了一種半片式可磨銑強(qiáng)磁打撈器,解決了水平井小件落物重復(fù)打撈的問題。具體包括本體和磁鐵,所述本體的上端設(shè)有連接端口,所述本體,具有一個側(cè)平面或側(cè)凹面;所述磁鐵,固定在所述側(cè)平面或所述側(cè)凹面上;所述側(cè)平面或所述側(cè)凹面的表面積大于所述本體的底部表面積;所述本體上具有所述側(cè)平面或側(cè)凹面的上方遮擋結(jié)構(gòu)。本申請打撈器改變了磁場分布,增加了磁場強(qiáng)度,增大了對落物的吸附力,并能保護(hù)已撈獲的落物,防止套管刮掉落物;即使落物掉落,水眼結(jié)構(gòu)的設(shè)計也能將落物沖起,便于重新打撈;對于大件落物,可進(jìn)行磨銑切削為小件落物后進(jìn)行打撈。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及油田水平井修井中的專用小件落物打撈工具,主要用于水平井小件落物打撈。
背景技術(shù)
目前常用的強(qiáng)磁打撈工具,工具主體是圓柱形的,圓柱體的下端面設(shè)有磁塊槽,磁塊固定在磁塊槽內(nèi),小件落物被磁鐵吸附在圓柱體的底部。
撈住小件落物后,因小件落物被吸附在圓柱體的底部,上提過程中,遇到斜井段和水平段,小件落物與管壁會有刮磨,因此小件落物易重新掉入井內(nèi),只能重復(fù)打撈。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種半片式可磨銑強(qiáng)磁打撈器,通過改變工具的結(jié)構(gòu)和磁場分布,增加了磁場強(qiáng)度,保護(hù)已撈獲的小件落物,避免起下管柱過程中套管刮磨落物,增加了小件落物的打撈成功率,解決了水平井小件落物打撈困難的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種半片式可磨銑強(qiáng)磁打撈器,包括本體和磁鐵,所述本體的上端設(shè)有連接端口,其特征在于:
所述本體, 具有一個側(cè)平面或側(cè)凹面;
所述磁鐵,固定在所述側(cè)平面或所述側(cè)凹面上;
所述側(cè)平面或所述側(cè)凹面的表面積大于所述本體的底部表面積;
所述本體上具有所述側(cè)平面或側(cè)凹面的上方遮擋結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選地,所述本體,還設(shè)有水眼結(jié)構(gòu);
所述水眼結(jié)構(gòu),構(gòu)成水流通道,所述水流通道的一端起始于所述連接端口,另一端終止于所述本體的側(cè)壁。
優(yōu)選地,所述側(cè)平面平行于所述本體的中心軸,所述側(cè)平面上開槽,所述磁鐵置于所述槽內(nèi)并通過壓條固定。
優(yōu)選地,所述壓條上鋪焊耐磨材料。
本發(fā)明的有益效果:
1)打撈器將磁塊安裝在表面積更大的側(cè)平面或側(cè)凹面上,改變了磁場分布,同時可增加磁塊的安裝數(shù)量,增大磁場強(qiáng)度,提高了對落物的吸附力度,保證了打撈成功率;
2)半片式結(jié)構(gòu)形成了對落物的有效遮擋,從而保護(hù)已撈獲的落物被套管刮到,防止吸附的落物重新掉落井下;
3)水眼結(jié)構(gòu)的設(shè)計,在落物重新掉落井下后,借助水力的反作用能將落物從井下沖起,便于重新打撈;
4)打撈器上鋪焊的耐磨材料,可對大件落物進(jìn)行磨銑切削,變?yōu)樾〖湮锖蟊阌诖驌啤?/p>
附圖說明
通過以下參考附圖對本發(fā)明實(shí)施例的描述,本發(fā)明的上述以及其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)更為清楚,在附圖中:
圖1是本發(fā)明實(shí)施例的一種半片式可磨銑強(qiáng)磁打撈器的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1中的A-A視圖。
圖3是圖1的側(cè)視圖。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國石油天然氣股份有限公司;大慶油田有限責(zé)任公司,未經(jīng)中國石油天然氣股份有限公司;大慶油田有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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