[發(fā)明專利]一種適用于硅片的氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711102152.2
• 申請(qǐng)日: 2017-11-10
• 公開（公告）號(hào): CN108091549A
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沈美玲;林子杰;彭振維;林建豪;王洋洋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鹽城金合盛光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02;H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 南京匯恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32282
• 代理人: 夏恒霞

本發(fā)明公開了一種適用于硅片的氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備，包括：氮?dú)獍l(fā)生器和載具，載具包括：載臺(tái)和安裝于載臺(tái)上表面的用于承載硅片的若干個(gè)載片，載臺(tái)上表面傾斜且其頂端設(shè)置有與氮?dú)獍l(fā)生器連通的出風(fēng)口，硅片放置于載片上且與載臺(tái)上表面平行，出風(fēng)口的風(fēng)向與豎直方向的夾角A小于硅片所在方向與豎直方向的夾角B。這樣一來，在出風(fēng)的風(fēng)力作用及液體本身的重力作用下，液體會(huì)順著硅片向下流至載臺(tái)上；而且，出風(fēng)相較于硅片向下傾斜，避免將硅片吹起或吹跑。有益之處在于：本發(fā)明的氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備適用于對(duì)硅片進(jìn)行表面清潔，去除殘留清洗液和顆粒污染物，具有清潔速度快、效率高、不易有殘留且不易碎片等諸多優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種清潔設(shè)備，具體涉及一種適用于硅片的氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備，屬于太陽能技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

硅片是太陽能器件的核心部件，其質(zhì)量好壞直接決定了光伏電池片的轉(zhuǎn)換效率。在生產(chǎn)過程中，硅片依次經(jīng)過切片、倒角、研磨、拋光等多道工序，表面會(huì)受到一些污染，而污染物的存在會(huì)直接導(dǎo)致光轉(zhuǎn)換效率大大降低，因此，對(duì)硅片進(jìn)行清洗以去除其表面的顆粒、金屬離子及有機(jī)物等污染物是十分重要的一個(gè)步驟。

目前，市場(chǎng)上有多種用于太陽能硅片清洗的設(shè)備和工藝，如：超聲清洗法、高壓噴射法、等離子清洗法等，這些方法對(duì)于金屬離子和有機(jī)物的清洗效果顯著，但是清洗后殘留的清洗液無法去除，自然晾干后容易有水漬殘留，而且會(huì)吸附顆粒污染物（如灰塵等）。因而，上述清洗設(shè)備單獨(dú)使用還存在諸多不足，需要配合氮?dú)馇鍧崒⒐杵砻娴臍埩羟逑匆杭皶r(shí)去除，目前主要是通過手持氮?dú)鈽寣?duì)硅片表面進(jìn)行清潔，利用鑷子夾取硅片容易使硅片破碎，而且需要手動(dòng)控制氮?dú)夥较?，操作不方便，氮?dú)鈽尩某鲲L(fēng)口也小，每次吹氣只能吹一小部分，速度很慢，清潔效率很低。鑒于上述原因，有必要開發(fā)一種專門的氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容

為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備，能夠及時(shí)有效地去除硅片表面的殘留清洗液和顆粒污染物。

為了實(shí)現(xiàn)上述目標(biāo)，本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案：

一種適用于硅片的氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備，包括：氮?dú)獍l(fā)生器和載具，所述載具包括：載臺(tái)和安裝于載臺(tái)上表面的用于承載硅片的若干個(gè)載片，所述載臺(tái)上表面傾斜且其頂端設(shè)置有與氮?dú)獍l(fā)生器連通的出風(fēng)口，硅片放置于載片上且與載臺(tái)上表面平行，所述出風(fēng)口的風(fēng)向與豎直方向的夾角A小于硅片所在方向與豎直方向的夾角B。這樣一來，在出風(fēng)的風(fēng)力作用及液體本身的重力作用下，液體會(huì)順著硅片向下流至載臺(tái)上；而且，出風(fēng)相較于硅片向下傾斜，避免將硅片吹起或吹跑。

優(yōu)選地，前述載臺(tái)上表面相對(duì)于水平底面的傾斜角度C為15°~30°，能夠使殘留清洗液在重力作用下更易清除。

優(yōu)選地，前述載片為L(zhǎng)型框體結(jié)構(gòu)，包括底承座和側(cè)擋板。

再優(yōu)選地，前述載片的數(shù)量為4個(gè)，其中第一對(duì)載片設(shè)置于靠近載臺(tái)底部，第二對(duì)載片設(shè)置于靠近出風(fēng)口處。

進(jìn)一步優(yōu)選地，前述第一對(duì)載片并排設(shè)置且側(cè)擋板所在平面與載臺(tái)的第一豎截面一致，避免硅片向下滑落；所述第二對(duì)載片相對(duì)設(shè)置且側(cè)擋板所在平面與載臺(tái)的第二豎截面一致，從兩側(cè)對(duì)硅片進(jìn)行限位。

再進(jìn)一步優(yōu)選地，前述出風(fēng)口為狹長(zhǎng)型風(fēng)口，清潔速度快，不易有殘留。

更進(jìn)一步優(yōu)選地，前述載臺(tái)和載片均由鐵氟龍制成，具有耐腐蝕、使用壽命長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn)，所述載片滑動(dòng)安裝于載臺(tái)上，載片位置能夠調(diào)節(jié)，從而適用于不同尺寸的硅片。

更進(jìn)一步優(yōu)選地，前述夾角B比夾角A大3°~8°，既能壓住硅片，又不會(huì)損壞硅片。

更優(yōu)選地，前述載臺(tái)上形成有漏水孔，從而提高清潔效率。

本發(fā)明的有益之處在于：本發(fā)明的氮?dú)馇鍧嵲O(shè)備適用于對(duì)硅片進(jìn)行表面清潔，去除殘留清洗液和顆粒污染物，具有清潔速度快、效率高、不易有殘留且不易碎片等諸多優(yōu)點(diǎn)。

附圖說明