[發(fā)明專(zhuān)利]一種針對(duì)單個(gè)納米顆粒的檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711099225.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108051362B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 江麗雯;路鑫超;孫旭晴;劉虹遙;熊偉;諶雅琴;張朝前 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N15/14 | 分類(lèi)號(hào): | G01N15/14 |
| 代理公司: | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 11302 | 代理人: | 房德權(quán) |
| 地址: | 100029 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 針對(duì) 單個(gè) 納米 顆粒 檢測(cè) 方法 | ||
1.一種針對(duì)單個(gè)納米顆粒的檢測(cè)方法,其特征在于,所述檢測(cè)方法包括如下步驟:
在蓋玻片上附著單個(gè)納米顆粒;
光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)線(xiàn)偏振器擴(kuò)束整形、聚焦后,經(jīng)薄膜分束器反射到油浸物鏡的后焦平面;
調(diào)節(jié)入射光在所述油浸物鏡的后焦平面上的位置,使入射光斜入射到所述蓋玻片上,在所述蓋玻片表面產(chǎn)生沿表面?zhèn)鞑ァ?qiáng)度在豎直方向上呈指數(shù)衰減的倏逝波;所述倏逝波遇到所述單個(gè)納米顆粒發(fā)生散射,其中一部分散射到空間中呈立體角分布,另一部分沿所述蓋玻片表面?zhèn)鞑ギa(chǎn)生徑向界面散射;
通過(guò)CCD收集所述界面散射的信號(hào)和所述蓋玻片上的反射光,并通過(guò)所述CCD對(duì)所述單個(gè)納米顆粒進(jìn)行成像;
其中,所述通過(guò)CCD收集所述界面散射的信號(hào)和所述蓋玻片上的反射光,并通過(guò)所述CCD對(duì)所述單個(gè)納米顆粒進(jìn)行成像,包括如下步驟:
通過(guò)所述CCD收集所述界面散射的信號(hào)和所述蓋玻片上的反射光,所述CCD測(cè)量所述蓋玻片上有單個(gè)納米顆粒的反射光作為當(dāng)前光斑;
采用所述CCD測(cè)量所述蓋玻片上無(wú)任何單個(gè)納米顆粒的反射光作為背景光斑;
將所述背景光斑與所述當(dāng)前光斑相減,進(jìn)行數(shù)據(jù)平均降噪處理,除去光斑的背景噪聲及所述CCD的噪聲,增強(qiáng)散射場(chǎng)與背景的對(duì)比度,優(yōu)化成像效果;
所述入射光線(xiàn)在蓋玻片表面發(fā)生界面散射和全內(nèi)反射;
其中,沿所述蓋玻片表面?zhèn)鞑サ慕缑嫔⑸渑c所述倏逝波發(fā)生干涉,在所述蓋玻片表面產(chǎn)生明暗相間的條紋,且呈同心拋物線(xiàn)形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法,其特征在于,所述單個(gè)納米顆粒為病毒、納米顆粒、碳納米管、量子點(diǎn)中的一種或多種。
3.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法,其特征在于,所述光源為激光器,所述光源的波長(zhǎng)為633nm。
4.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法,其特征在于,所述油浸物鏡的數(shù)值孔徑為1.7。
5.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法,其特征在于,所述蓋玻片為的折射率為1.78。
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