[發明專利]一種高聚物光學解偏振儀

在審

• 申請號: 201711098593.X
• 申請日: 2017-11-09
• 公開（公告）號: CN107764746A
• 公開（公告）日: 2018-03-06
• 發明（設計）人: 楊波;楊定海;陸建忠
• 申請（專利權）人: 上海凱歷迪新材料科技股份有限公司;上海東華凱利新材料科技有限公司
• 主分類號: G01N21/21
• 分類號: G01N21/21;G01N21/01
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙)32257
• 代理人: 王東偉

技術領域

本發明涉及一種高聚物結晶速度測量技術領域，特別是涉及一種高聚物光學解偏振儀。

背景技術

目前，一般采用體積膨脹計法測定高聚物結晶速度；但是，該方法存在測定速度慢、熱平衡時間長的缺點，不適用于測定結晶速度快的高聚物。而光學解偏振儀測定結晶動力學速度參數，是基于結晶過程中高聚物光學性能變化的原理建立起來的，具有快速、準確、適用材料品種多的優點。

現有光學解偏振儀的主要部件主要分裝在兩個箱體中。其中一個箱體內裝有熔融爐、結晶爐、光學測量組件(如，信號光源、聚光鏡、半透鏡、光電倍增管、檢偏鏡、半透半反鏡)；另一個箱體內裝有控溫系統、電源、變壓器、高壓電源、微調電路、光強自控電路、導線。

但是，本發明的發明人發現上述現有的光學解偏振儀至少存在如下技術問題：(1)上述光學解偏振儀各個零部件的體積較大，占用光學解偏振儀很大的空間；(2)由于上述光學解偏振儀的主要部件分裝在兩個箱體中，使得結構不緊湊，容易造成儀器測量的不穩定。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種高聚物光學解偏振儀，主要目的在于減小光學解偏振儀的體積，提高儀器測量的穩定性。

為達到上述目的，本發明主要提供如下技術方案：

本發明的實施例提供一種高聚物光學解偏振儀，其中，所述高聚物光學解偏振儀包括：

全自動閉環光路檢測系統，所述全自動閉環光路檢測系統包括信號光源、濾色片結構、起偏鏡、結晶爐、半透半反鏡、第一硅光電池及第二硅光電池；其中，所述光源所發出的光經濾色片、起偏鏡后，照射至所述結晶爐中高聚物樣品上，且透射過高聚物樣品的透射光經過所述半透半反鏡；所述第一硅光電池用于將經所述半透半反鏡透射的光信號轉換成第一電信號；所述第二硅光電池用于將經所述半透半反鏡反射的光信號轉換成第二電信號；

信號采集變換系統，所述信號采集變換系統與所述第一硅光電池電連接，用于將所述第一電信號轉換成數字信號，能將數字信號傳輸至計算機，以使計算機軟件得出高聚物樣品結晶速度數據；

多級控制反饋系統，所述多級控制反饋系統分別與所述第二硅光電池、光源連接，用于自動調節所述第二電信號強弱，控制所述信號光源的發光強度。

本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

優選地，所述高聚物光學偏振儀包括一殼體；其中，所述全自動閉環光路檢測系統、信號采集變換系統、多級控制反饋系統均設置在所述殼體內；

優選地，所述殼體的長度為180-220mm、寬度為80-100mm、高度為40-60mm；

優選地，所述濾色片結構由兩片濾色片粘接而成；其中，所述濾色片的外徑為10mm±0.1mm，所述濾色片的厚度1.5mm±0.1mm。

優選地，所述多級控制反饋系統包括大功率補償電路；其中，

所述大功率補償電路與所述第二硅光電池、信號光源連接，并根據所述第二電信號與參比電壓比較，以自動控制所述信號光源的發光強度。

優選地，所述結晶爐包括相對設置的第一側部和第二側部；其中，所述第一側部和第二側部的中心處設置有通孔，用于使偏振光能透射過結晶爐內的高聚物樣品。

優選地，所述通孔的直經為2.5mm-3.0mm。

優選地，所述高聚物光學解偏振儀還包括電源系統，其中所述電源系統包括：

第一變壓穩壓器，所述第一變壓穩壓器與交流220v電源連接，用于給所述結晶爐提供第一電壓；優選地，所述第一電壓為直流36v；

第二變壓穩壓器，所述第二變壓穩壓器交流220v電源連接，用于給所述信號光源、多級控制反饋系統提供第二電壓；優選地，所述第二電壓為直流12v；

其中，所述第一變壓穩壓器、第二變壓穩壓器設置在所述殼體內。

優選地，所述光學解偏振儀還包括溫度控制系統，其中，所述溫度控制系統與所述結晶爐連接，以控制所述結晶爐的加熱溫度；

優選地，所述信號采集變換系統包括多路采集卡。

優選地，所述信號采集變換系統用于采集來自第一硅光電池、第二硅光電池的電信號參數、所述溫度控制系統控制結晶爐的加熱溫度參數，并能將電信號參數、加熱溫度參數轉換成數字信號，并傳輸至計算機上，以在計算機軟件運行下，得出高聚物樣品結晶速度數據和曲線；

其中，所述高聚物樣品結晶速度數據和曲線包括解偏振光強對時間的曲線、不同等溫結晶過程中的等溫結晶參數、半結晶時間、結晶速度常數和阿弗拉米指數。