[發明專利]氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底及制備方法和應用在審
| 申請號： | 201711098588.9 | 申請日： | 2017-11-09 |
| 公開（公告）號： | CN107860760A | 公開（公告）日： | 2018-03-30 |
| 發明（設計）人： | 張超;滿寶元;姜守振;楊誠;修顯武;趙曉菲 | 申請（專利權）人： | 山東師范大學 |
| 主分類號： | G01N21/65 | 分類號： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 濟南圣達知識產權代理有限公司37221 | 代理人： | 董雪 |
| 地址： | 250014 *** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 石墨 納米 顆粒 金字塔 pmma 三維 柔性 增強 基底 制備 方法 應用 | ||
1.一種氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底，其特征在于，所述增強基底從下到上依次包括：氧化石墨烯層、銀納米顆粒層和PMMA層。
2.一種氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)制備金字塔形硅基底；
(2)在金字塔形硅基底表面鍍一層銀膜，經過退火得到銀納米顆粒；
(3)在有銀納米顆粒的金字塔硅上涂上PMMA；
(4)將步驟(3)中得到的金字塔形硅基底放在氫氧化鈉溶液中腐蝕掉硅片，去氫氧化鈉溶液，得到銀納米顆粒/金字塔形PMMA；
(5)將氧化石墨烯溶液到涂覆銀納米顆粒/金字塔形PMMA表面，晾干，即得。
3.如權利要求2所述的一種氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述的硅基底材料為單晶硅。
4.如權利要求2所述的一種氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)中，利用濕法腐蝕工藝制備金字塔形硅基底。
5.如權利要求2所述的一種氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中，用熱蒸鍍的方法在硅基底表面鍍一層銀膜。
6.如權利要求2所述的一種氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述的銀納米顆粒的直徑為20-90nm。
7.如權利要求2所述的一種氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底的制備方法，其特征在于，所述的氧化石墨烯溶液涂覆過程采用立刻dip-coating的方法。
8.如權利要求1或2所述的氧化石墨烯/銀納米顆粒/金字塔形PMMA三維柔性拉曼增強基底在獲得拉曼增強光譜中的應用。
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