[發(fā)明專利]薄膜型電感器以及用于制造薄膜型電感器的方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201711096504.8
• 申請日: 2017-11-09
• 公開（公告）號: CN108074729A
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 車一鎬;李尚宰;樸浩植;樸惠憲;李光職;車慧娫;金在河
• 申請（專利權(quán)）人: 三星電機株式會社
• 主分類號: H01F27/30
• 分類號: H01F27/30;H01F27/32;H01F41/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 汪喆;馬翠平

1.一種薄膜型電感器，包括：

主體，所述主體包括：支撐構(gòu)件；線圈，包括設(shè)置在所述支撐構(gòu)件的至少一個表面上的多個導(dǎo)電圖案和形成在所述多個導(dǎo)電圖案的表面上以與所述多個導(dǎo)電圖案的所述表面的形狀一致的絕緣層；和填料，具有磁特性且埋設(shè)所述線圈和所述支撐構(gòu)件；以及

外電極，所述外電極電連接到所述線圈且設(shè)置在所述主體的外表面上，

其中，所述支撐構(gòu)件包括至少兩個邊緣部分，所述邊緣部分與所述填料直接接觸，且所述填料充填彼此相鄰的導(dǎo)電圖案之間的空間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜型電感器，其中，所述絕緣層包括環(huán)氧基樹脂、丙烯酸樹脂和尿烷基樹脂中的一種或更多種。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜型電感器，其中，所述絕緣層還包括聚酰亞胺。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜型電感器，其中，所述支撐構(gòu)件的中央部分包括通孔，所述通孔的邊緣與所述填料直接接觸。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜型電感器，其中，設(shè)置在所述線圈的所述多個導(dǎo)電圖案中的各導(dǎo)電圖案的上表面上的絕緣層的厚度等于或小于設(shè)置在所述線圈的所述多個導(dǎo)電圖案中的各導(dǎo)電圖案的側(cè)表面上的絕緣層的厚度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜型電感器，其中，所述多個導(dǎo)電圖案的平均高度在100μm至300μm的范圍內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜型電感器，其中，所述多個導(dǎo)電圖案包括第一導(dǎo)電圖案和第二導(dǎo)電圖案，斷開部在設(shè)置在所述第一導(dǎo)電圖案的側(cè)表面上的第一絕緣層和設(shè)置在所述第二導(dǎo)電圖案的側(cè)表面上且面對所述第一絕緣層的第二絕緣層之間的空間中設(shè)置在所述支撐構(gòu)件的表面上，以使所述第一絕緣層和所述第二絕緣層分開，并且所述填料設(shè)置在所述斷開部內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜型電感器，其中，所述支撐構(gòu)件包括與所述填料的材料相同的材料。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜型電感器，其中，設(shè)置在所述線圈的所述多個導(dǎo)電圖案中的各導(dǎo)電圖案的上表面上的絕緣層的厚度與設(shè)置在所述線圈的所述多個導(dǎo)電圖案中的各導(dǎo)電圖案的側(cè)表面上的絕緣層的厚度的比在0.95至1.0的范圍內(nèi)。

10.一種用于制造薄膜型電感器的方法，所述方法包括如下步驟：

在支撐構(gòu)件的至少一個表面上形成多個導(dǎo)電圖案，以形成線圈；

在所述線圈的表面上設(shè)置絕緣層，以與所述線圈的所述表面的形狀一致；

在所述支撐構(gòu)件的上表面和下表面上設(shè)置具有磁特性的填料，以形成埋設(shè)所述支撐構(gòu)件和所述線圈兩者的主體；以及

在所述主體的外表面上形成連接到所述線圈的外電極，

其中，所述絕緣層沒有設(shè)置在所述支撐構(gòu)件的邊緣部分的表面上，并且所述支撐構(gòu)件的所述邊緣部分的所述表面與所述填料直接接觸。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，設(shè)置所述絕緣層的步驟使用電沉積涂覆。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，使用電沉積涂覆設(shè)置所述絕緣層的步驟還包括使用紫外法使所述絕緣層固化。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述電沉積涂覆是陽離子電沉積涂覆。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，所述絕緣層包括丙烯酸樹脂或尿烷基樹脂。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述絕緣層還包括聚酰亞胺樹脂。

16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，利用填料充填彼此相鄰的所述導(dǎo)電圖案之間的空間。

17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，還包括在其上設(shè)置有所述線圈的所述支撐構(gòu)件的中央部分中形成通孔且允許所述填料與所述通孔的邊緣以及所述通孔的邊緣附近接觸的步驟。