[發明專利]一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料及其加工方法在審
| 申請號: | 201711092778.X | 申請日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN107778860A | 公開(公告)日: | 2018-03-09 |
| 發明(設計)人: | 高兆波;黃俊敏 | 申請(專利權)人: | 廣州維邦新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C08L79/08 | 分類號: | C08L79/08;C08L23/08;C08L27/18;C08L23/06;C08L91/06;C08K13/06;C08K9/04;C08K9/06;C08K3/22;C08K3/36;C08K5/09;C08K7/14;C08K5/101 |
| 代理公司: | 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙)11638 | 代理人: | 王新愛 |
| 地址: | 511300 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高鐵用耐 電暈 聚酰亞胺 材料 及其 加工 方法 | ||
1.一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料,其特征在于,包括以下重量份數的組分:
聚酰亞胺40~60份、乙烯-醋酸乙烯共聚物1~10份、玻璃纖維1~10份、表面活性劑改性的納米氧化鋁1~10份、偶聯劑改性的納米二氧化硅1~10份、納米氧化鐵粉體1~10份、聚四氟乙烯1~10份、聚乙烯1~10份以及潤滑劑1~10份。
2.根據權利要求1所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料,其特征在于,包括以下重量份數的組分:
聚酰亞胺50份、乙烯-醋酸乙烯共聚物9份、玻璃纖維8份、表面活性劑改性的納米氧化鋁6份、偶聯劑改性的納米二氧化硅3份、納米氧化鐵粉體5份、聚四氟乙烯3.5份、聚乙烯2.8份以及潤滑劑1.5份。
3.根據權利要求1所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料,其特征在于,所述潤滑劑為石蠟、硬脂酸、硬脂酸丁酯中的一種、兩種或者多種。
4.根據權利要求1所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料,其特征在于,所述表面活性劑改性的納米氧化鋁為十二烷基磺酸鈉改性的納米氧化鋁。
5.根據權利要求1所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料,其特征在于,所述偶聯劑改性的納米二氧化硅為硅烷偶聯劑KH570改性的納米二氧化硅。
6.一種根據權利要求1~5任意一項所述的高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料的加工方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、以去離子水作為溶劑,使用表面活性劑對納米氧化鋁進行改性,制備表面活性劑改性的納米氧化鋁;
步驟二、以鹽酸水溶液為溶劑,在一定溫度下,使用偶聯劑對納米二氧化硅進行改性,制備偶聯劑改性的納米二氧化硅;
步驟三、按重量份數計,將40~60份聚酰亞胺、1~10份乙烯-醋酸乙烯共聚物、1~10份表面活性劑改性的納米氧化鋁、1~10份偶聯劑改性的納米二氧化硅、1~10份納米氧化鐵粉體、1~10份聚四氟乙烯、1~10份聚乙烯加入到高速捏合機中,在180~200℃下捏合5~15min,繼續加入1~10份玻璃纖維和1~10份潤滑劑,在該溫度下繼續捏合10~20min,得到混合漿料;
步驟四、將所述混合漿料由雙螺桿擠出機進行擠出造粒,得到高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料。
7.根據權利要求6所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料的加工方法,其特征在于,所述表面活性劑改性的納米氧化鋁的制備過程為:
按重量份數計,分別稱量30~50份30~40℃去離子水、2~5份表面活性劑-十二烷基磺酸鈉、10~20份納米氧化鋁置于燒杯中,依次進行磁力攪拌和超聲波處理,得到表面活性劑改性的納米氧化鋁溶膠;
在50~60℃下對所述表面活性劑改性的氧化鋁溶膠旋轉蒸發至干,收集干燥的表面活性劑改性的納米氧化鋁溶膠,對其研磨后得到表面活性劑改性的納米氧化鋁。
8.根據權利要求7所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料的加工方法,其特征在于,所述偶聯劑改性的納米二氧化硅的制備過程為:
按重量份數計,分別稱量30~50份pH為1的鹽酸水溶液、2~5份偶聯劑-硅烷偶聯劑KH570、10~20份納米二氧化硅置于燒杯中,將燒杯置于50~70℃的水浴環境中,并依次進行磁力攪拌和超聲波處理,得到偶聯劑改性的納米二氧化硅溶膠;
在50~60℃下對所述偶聯劑改性的納米二氧化硅溶膠旋轉蒸發至干,收集干燥的偶聯劑改性的納米二氧化硅溶膠,對其研磨后得到偶聯劑改性的納米二氧化硅。
9.根據權利要求6所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料的加工方法,其特征在于,所述雙螺桿擠出機包括六個加熱區,其中,一區溫度為220~240℃、二區溫度為230~250℃、三區溫度為240~260℃、四區溫度為260~280℃、五區溫度為250~270℃、六區溫度為240~260℃。
10.根據權利要求8所述的一種高鐵用耐電暈級聚酰亞胺材料的加工方法,其特征在于,所述納米氧化鋁的粒徑為1~50nm,所述納米二氧化硅的粒徑為1~50nm。
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