[發(fā)明專利]一種應(yīng)用風(fēng)刀涂布制備鈣鈦礦太陽能電池的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711092635.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109755394B | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡勁松;丁捷;葛倩慶 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院化學(xué)研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L51/48 | 分類號(hào): | H01L51/48;H01L51/42;B05C11/06 |
| 代理公司: | 北京知元同創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 劉元霞 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 應(yīng)用 風(fēng)刀涂布 制備 鈣鈦礦 太陽能電池 方法 | ||
1.一種有機(jī)無機(jī)復(fù)合鈣鈦礦薄膜的制備方法,包括以下步驟:
(1)配制鈣鈦礦型材料的前驅(qū)體溶液;所述鈣鈦礦型材料選自ABX3型有機(jī)無機(jī)復(fù)合的鈣鈦礦材料,所述鈣鈦礦型材料的前驅(qū)體為AX和BX2,其中,A為CH3NH3+,CH3CH2NH3+,NH2CH=NH2+,Cs+中的一種或多種;B為Pb2+,Sn2+,Ge2+中的一種或多種;X選自Cl-,Br-,I-中的一種或多種;
所述前驅(qū)體溶液還包含有機(jī)溶劑,所述有機(jī)溶劑選自γ-丁內(nèi)酯(GBL)、二甲基亞砜(DMSO)、二甲基甲酰胺(DMF)中的一種或多種,所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液的濃度為20wt%~75wt%;
(2)使用風(fēng)刀涂布所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液制備鈣鈦礦前驅(qū)體薄膜;所述風(fēng)刀的輸入氣流壓力為0.2MPa~0.6MPa;
步驟(2)通過如下方式進(jìn)行:氮?dú)庠诮?jīng)過進(jìn)氣口進(jìn)入風(fēng)刀高壓腔后,氣流通過噴嘴形成一張均衡的氣流薄膜,應(yīng)用這一氣流薄膜均勻涂布鈣鈦礦前驅(qū)體溶液;
(3)將所述鈣鈦礦前驅(qū)體薄膜在熱臺(tái)上進(jìn)行退火,得到所述有機(jī)無機(jī)復(fù)合鈣鈦礦薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其中A為CH3NH3+;B為Pb2+;X為I-。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其中AX與BX2的摩爾比為1:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,所述前驅(qū)體溶液的有機(jī)溶劑選自DMSO與DMF的混合溶劑;
所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液的濃度為45wt%~55wt%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其中步驟(3)中,所述退火溫度為60℃~120℃,退火時(shí)間為5~60分鐘。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,所述有機(jī)無機(jī)復(fù)合鈣鈦礦薄膜的厚度為100nm~700nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,所述有機(jī)無機(jī)復(fù)合鈣鈦礦薄膜的厚度為130nm~350nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,所述有機(jī)無機(jī)復(fù)合鈣鈦礦薄膜的厚度為270nm~300nm。
9.一種鈣鈦礦薄膜太陽能電池的制備方法,包括權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的制備方法,以及一種電子傳輸材料薄膜的制備方法,所述電子傳輸材料薄膜的制備方法,包括以下步驟:
(1)配制電子傳輸材料的前驅(qū)體溶液,所述電子傳輸材料的前驅(qū)體溶液包含下列的一種或多種金屬氧化物:二氧化鈦(TiO2)、二氧化錫(SnO2)、氧化鋅(ZnO)、二氧化鋯(ZrO2),所述前驅(qū)體溶液的濃度為1wt%~20wt%;
(2)使用風(fēng)刀涂布所述電子傳輸材料前驅(qū)體溶液制備電子傳輸材料前驅(qū)體薄膜,形成致密的金屬氧化物層,所述金屬氧化物層的厚度為10nm~40nm,所述風(fēng)刀的輸入氣流壓力為0.2MPa~0.6MPa;
(3)將所述電子傳輸材料前驅(qū)體薄膜在熱臺(tái)上進(jìn)行退火,得到所述電子傳輸材料薄膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,步驟(1)中所述電子傳輸材料的前驅(qū)體溶液為濃度為5wt%的SnO2膠體水溶液;
步驟(2)形成致密的二氧化錫層,其厚度為20nm~30nm。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的制備方法,其中步驟(3)中所述退火溫度為100℃~180℃,退火時(shí)間為10min~30min。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
- 在線應(yīng)用平臺(tái)上應(yīng)用間通信的回調(diào)應(yīng)答方法、應(yīng)用及在線應(yīng)用平臺(tái)
- 應(yīng)用使用方法、應(yīng)用使用裝置及相應(yīng)的應(yīng)用終端
- 應(yīng)用管理設(shè)備、應(yīng)用管理系統(tǒng)、以及應(yīng)用管理方法
- 能力應(yīng)用系統(tǒng)及其能力應(yīng)用方法
- 應(yīng)用市場(chǎng)的應(yīng)用搜索方法、系統(tǒng)及應(yīng)用市場(chǎng)
- 使用應(yīng)用的方法和應(yīng)用平臺(tái)
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- 應(yīng)用檢測(cè)方法及應(yīng)用檢測(cè)裝置
- 應(yīng)用調(diào)用方法、應(yīng)用發(fā)布方法及應(yīng)用發(fā)布系統(tǒng)





