[發(fā)明專利]應(yīng)用于深度傳感器的靜電保護(hù)電路和深度傳感器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711091020.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107994558B | 公開(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐淵;謝剛;潘安;王育斌;黃志宇;劉詩(shī)琪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳技術(shù)大學(xué)(籌) |
| 主分類號(hào): | H02H9/04 | 分類號(hào): | H02H9/04;H02H9/02 |
| 代理公司: | 深圳市瑞方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 林儉良;馮小梅 |
| 地址: | 518118 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 應(yīng)用于 深度 傳感器 靜電 保護(hù) 電路 | ||
本發(fā)明涉及應(yīng)用于深度傳感器的靜電保護(hù)電路和深度傳感器,該靜電保護(hù)電路連接在深度傳感器的輸入/輸出焊盤與內(nèi)部電路之間,輸入/輸出焊盤用于接收或輸出信號(hào);內(nèi)部電路通過(guò)輸入/輸出焊盤接收或輸出信號(hào);靜電保護(hù)電路包括:第一級(jí)靜電泄放電路,連接在輸入/輸出焊盤與接地端之間,在輸入/輸出焊盤受靜電襲擊時(shí),將輸入/輸出焊盤產(chǎn)生的靜電電流泄放到接地端;限流電路,連接在第一級(jí)靜電泄放電路與內(nèi)部電路之間,對(duì)靜電電流進(jìn)行限流;第二級(jí)靜電泄放電路,連接在限流電路與內(nèi)部電路之間,將流經(jīng)限流電路的靜電電流進(jìn)行二次泄放。本方案通過(guò)設(shè)置雙級(jí)靜電泄放電路,有效保護(hù)深度傳感器內(nèi)部電路,且電路結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低、可靠性好。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及深度傳感器的領(lǐng)域,更具體地說(shuō),涉及一種應(yīng)用于深度傳感器的靜電保護(hù)電路和深度傳感器。
背景技術(shù)
現(xiàn)代集成電路(IC)以及射頻集成電路能夠承受的最大電壓僅為幾十伏甚至更低,因此在集成電路的整個(gè)生命周期中,從制造、封裝、測(cè)試、運(yùn)輸?shù)綉?yīng)用,都時(shí)刻面臨著ESD(靜電泄放)事件的沖擊,ESD是所有IC失效中最為普遍的因素。高密度集成電路器件具有線間距短、線細(xì)、集成度高、運(yùn)算速度快、低功率和輸入阻抗高的特點(diǎn),導(dǎo)致這類器件對(duì)靜電較敏感,稱之為靜電敏感器件。隨著IC芯片集成度和工藝性能提高,器件的最小特征尺寸不斷減小,IC芯片對(duì)于ESD引起的失效更加敏感。
ESD靜電因?yàn)闀r(shí)間短,能量大,往往對(duì)電路產(chǎn)生瞬間的沖擊,易導(dǎo)致電路中各器件受到損壞,因此要求ESD防護(hù)結(jié)構(gòu)不但要有很好的電流泄放能力,而且對(duì)于ESD靜電有較快的反應(yīng)速度。
避免TOF芯片受到靜電而擊穿損毀方法是在IC上增加有效的ESD保護(hù)電路,當(dāng)IC遭受ESD沖擊時(shí),保護(hù)電路能夠迅速開啟,把ESD大電流旁路,使其不經(jīng)過(guò)核心電路,并將電壓鉗位在較低的水平。
在半導(dǎo)體工藝及技術(shù)不斷發(fā)展的今天,ESD防護(hù)研究領(lǐng)域仍有許多機(jī)遇和挑戰(zhàn)。主要體現(xiàn)在以下四個(gè)方面:
1)納米工藝下的ESD防護(hù):隨著工藝的不斷發(fā)展,納米集成電路面對(duì)ESD更加脆弱,這主要由超薄的柵氧化層、極窄的溝道長(zhǎng)度、更淺的PN結(jié)深度、更薄的金屬層厚度、更密的晶體管等工藝因素造成的。此外,High.K介質(zhì)的使用及FinFET等新型結(jié)構(gòu)的普及,也進(jìn)一步要求ESD防護(hù)器件做出相應(yīng)的調(diào)整。
2)射頻電路的ESD防護(hù):由于射頻電路的工作頻率越來(lái)越高,使得其對(duì)ESD器件引入的寄生參數(shù),尤其是寄生電容十分敏感。因此需要引入ESD防護(hù)的同時(shí),盡量不影響射頻電路的性能。
3)高壓工藝下的ESD防護(hù):ESD防護(hù)設(shè)計(jì)不僅需要在高電壓大電流的工作條件下具備充分的可靠性,同時(shí)要有足夠的抗干擾能力,也就是抗栓鎖能力。
4)特殊工藝的ESD防護(hù):隨著SOI(Silicon on Insulator)工藝等新工藝,石墨烯等新材料,以及微電子機(jī)械系統(tǒng)(Micro.electromechanical Systems,MEMS)的使用,其ESD可靠性相關(guān)的研究還較為缺乏,不能真正實(shí)現(xiàn)靜電保護(hù),也不能使產(chǎn)品得到有效的保護(hù)。因此,上述新工藝的ESD防護(hù)設(shè)計(jì)需要額外考慮工藝特點(diǎn),提出完全不同的ESD防護(hù)方案。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于,針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,提供一種應(yīng)用于深度傳感器的靜電保護(hù)電路和深度傳感器。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:構(gòu)造一種應(yīng)用于深度傳感器的靜電保護(hù)電路,所述靜電保護(hù)電路連接在深度傳感器的輸入/輸出焊盤與內(nèi)部電路之間,其中,
所述輸入/輸出焊盤用于接收或輸出信號(hào);
所述內(nèi)部電路通過(guò)所述輸入/輸出焊盤接收或輸出信號(hào);
所述靜電保護(hù)電路包括:
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