[發明專利]一種改進的流體除鐵方法及裝置

有效

• 申請號: 201711089691.7
• 申請日: 2017-11-08
• 公開（公告）號: CN107899743B
• 公開（公告）日: 2019-12-03
• 發明（設計）人: 倪以秀
• 申請（專利權）人: 諸暨市烈火工業設計工作室
• 主分類號: B03C1/02
• 分類號: B03C1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了流體除鐵技術領域的一種改進的流體除鐵裝置，兩組所述移動支架分別安裝在流體存儲箱的底部外壁上，所述移動支架的底部設置有滑條，所述支撐底座的頂部開設有與滑條相配合的滑槽，所述支撐底座的頂部兩側均安裝有支撐桿，兩組支撐桿的相對內側端部安裝有相互對應的永磁裝置，且永磁裝置分別設置在流體存儲箱的兩側外壁，且永磁裝置與流體存儲箱不貼合，且移動支架設置在兩組支撐桿的內側，所述流體存儲箱的頂部左側設置有清水箱，所述清水箱的右側外壁上插接有水管，且水管的另一端與水泵的進水口連接，該裝置便于操作，通過控制閥門來控制排液管、排渣管、進液管和出液管的開合，便于除鐵，清洗和排渣的操作。

技術領域

本發明涉及流體除鐵技術領域，具體為一種改進的流體除鐵方法及裝置。

背景技術

現有的陶瓷漿料的除鐵，是在南北磁場內將陶瓷漿料倒入填充有軟磁截止到額通道內進行的，當軟磁介質吸滿鐵磁物質后，就需要對軟磁介質進行清洗，一般的通過從上往下導入，雖然在清洗的時候所產生的余漿較少，但是由于容易形成導致流速過快的固液氣三項流體，并且通過軟磁介質的漿料流體是從通道的底部排走，受到重力及流體流動性質的影響，是的漿料流體流過軟磁介質的流速過快，特別是中間的漿料流體要比兩邊的漿料流體流速快，從而導致除鐵效果不理想，并且清洗不徹底，為此，我們提出一種改進的流體除鐵方法及裝置。

發明內容

本發明的目的在于提供一種改進的流體除鐵方法及裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種改進的流體除鐵裝置，包括支撐底座，所述支撐底座的底部安裝有支架，所述支撐底座的兩側頂部對稱安裝有移動支架，兩組所述移動支架分別安裝在流體存儲箱的底部外壁上，所述移動支架的底部設置有滑條，所述支撐底座的頂部開設有與滑條相配合的滑槽，所述支撐底座的頂部兩側均安裝有支撐桿，兩組支撐桿的相對內側端部安裝有相互對應的永磁裝置，且永磁裝置分別設置在流體存儲箱的兩側外壁，且永磁裝置與流體存儲箱不貼合，且移動支架設置在兩組支撐桿的內側，所述流體存儲箱的頂部左側設置有清水箱，所述清水箱的右側外壁上插接有水管，且水管的另一端與水泵的進水口連接，且水泵設置在流體存儲箱的頂部，所述水泵的出水口設置有軟管，且軟管的另一端貫穿流體存儲箱的頂部與淋洗盤頂部的進水口連接，所述淋洗盤通過支桿與流體存儲箱的頂部內壁連接，所述流體存儲箱的內腔設置有固定支架，所述固定支架的外壁上均勻設置有軟磁介質棒，所述固定支架的底部安裝有支撐軸桿，且支撐軸桿的底部貫穿流體存儲箱的底部與電機連接，所述電機安裝在流體存儲箱的底部，所述流體存儲箱的底部左側設置有緩沖槽，所述緩沖槽的左側和底部分別插接有排液管和排渣管，所述流體存儲箱的右側底部和頂部分別插接有進液管和出液管，且出液管設置在淋洗盤的下方。

優選的，所述淋洗盤包括積水盤，所述積水盤的底部圓形排列均勻設置八組結構相同的有分水管，所述分水管的底部出水口均勻設置有噴嘴。

優選的，所述固定支架包括橡膠支撐圈，所述橡膠支撐圈的中心處開設有與支撐軸桿相配合的安裝孔，所述橡膠支撐圈的外壁均勻設置有八組結構相同的橡膠橫桿，且橡膠橫桿的另一端設置有圓形夾具，且圓形夾具與軟磁介質棒大小相適配。

優選的，所述排液管、排渣管、進液管和出液管的外壁均設置有控制閥門。

優選的，所述軟磁介質棒的高度與永磁裝置的位置相對應。

優選的，一種改進的流體除鐵方法包括如下步驟：

S1：通過滑條的滑動作用，將流體存儲箱的位置做一個合適的調整，使得永磁裝置正對流體存儲箱內腔中的軟磁介質棒的位置，向清水箱中注入清洗所需的清水，檢查裝置各部件運轉正常；

S2：打開進液管上的控制閥門，關閉排液管和排渣管上的控制閥門，將待除鐵的陶瓷漿料流體通過進液管緩慢輸送至流體存儲箱中；