[發(fā)明專利]基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711088549.0 | 申請日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN107993848B | 公開(公告)日: | 2019-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 廖廣蘭;劉星月;史鐵林;劉智勇;韓京輝;涂玉雪;葉海波;湯自榮 | 申請(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01G9/20 | 分類號: | H01G9/20 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青;李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 摻雜 氧化 鈣鈦礦 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,該方法包括以下步驟:
(1)提供導(dǎo)電基底,并在所述導(dǎo)電基底上刻蝕出凹槽;
(2)對所述導(dǎo)電基底進(jìn)行清洗后吹干,接著對所述導(dǎo)電基底進(jìn)行紫外臭氧處理;
(3)采用水浴法在所述導(dǎo)電基底上沉積金紅石相的鎳摻雜二氧化鈦薄膜,并進(jìn)行退火處理,以形成光陽極,其中,退火溫度為450℃~500℃;
(4)在所述光陽極的表面旋涂鈣鈦礦前驅(qū)體溶液,并進(jìn)行加熱處理以得到三元混合陽離子鈣鈦礦層,即光吸收層;所述三元混合陽離子鈣鈦礦層為Cs0.05(MA0.17FA0.83)0.95Pb(I0.83Br0.17)3;
(5)真空條件下,在所述光吸收層的表面蒸鍍一層酞菁銅,以形成空穴傳輸層;
(6)通過絲網(wǎng)印刷商用碳漿成膜來在所述空穴傳輸層上形成碳對電極層,由此完成基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備。
2.如權(quán)利要求1所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述退火溫度為500℃。
3.如權(quán)利要求1所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述導(dǎo)電基底包括基片玻璃及設(shè)置在所述基片玻璃上的FTO導(dǎo)電層,所述凹槽貫穿所述FTO導(dǎo)電層,且鄰近所述導(dǎo)電基底的一端;所述光陽極設(shè)置在所述FTO導(dǎo)電層遠(yuǎn)離所述基片玻璃的表面上,其同時(shí)覆蓋所述凹槽的側(cè)壁壁面,所述側(cè)壁壁面與所述基片玻璃被所述光陽極覆蓋的表面區(qū)域垂直相交。
4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:步驟(2)具體包括以下步驟:分別用丙酮、乙醇、去離子水各超聲清洗所述導(dǎo)電基底10分鐘~15分鐘,然后用氮?dú)饬鞔蹈桑賹λ鰧?dǎo)電基底進(jìn)行紫外臭氧處理20分鐘~30分鐘。
5.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:步驟(3)具體包括以下步驟:將所述導(dǎo)電基底通過保持架固定后豎直放置在盛有生長溶液的燒杯中,再將所述燒杯置于恒溫水浴鍋中,并將所述生長溶液的反應(yīng)溫度控制在70℃~75℃,生長時(shí)間為2.5小時(shí)~3.5小時(shí),最后退火0.5小時(shí)~1小時(shí)。
6.如權(quán)利要求5所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述生長液的Ti源為TiCl4,鎳摻雜源為NiCl2·6H2O,其中TiCl4的濃度為0.2mol/L~0.3mol/L,NiCl2·6H2O的濃度大于0mol/L且小于等于0.013mol/L。
7.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述鈣鈦礦前驅(qū)體溶液的濃度為1.25mol/L~1.3mol/L。
8.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:蒸鍍速度控制在
9.一種基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述鈣鈦礦太陽能電池是采用如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池的制備方法制備的。
10.如權(quán)利要求9所述的基于鎳摻雜二氧化鈦的鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述光陽極的厚度為150nm~200nm;所述空穴傳輸層的厚度為35nm~40nm;所述碳對電極層的厚度為10μm~30μm。
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