[發(fā)明專利]一種圖像處理方法及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711086512.4 | 申請日： | 2017-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN109754365A | 公開（公告）日： | 2019-05-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張明方;王遠(yuǎn)靖 | 申請（專利權(quán)）人： | 印象認(rèn)知（北京）科技有限公司 |
| 主分類號： | G06T3/40 | 分類號： | G06T3/40;G06T3/00 |
| 代理公司： | 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 逯長明;許偉群 |
| 地址： | 100193 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 目標(biāo)物 多孔圖像 圖像處理 小孔 目標(biāo)圖像 圖像片段 倒像 形貌 目標(biāo)物表面 成像系統(tǒng) 多個目標(biāo) 矩陣式 糾正 拼接 申請 取出 圖像 應(yīng)用 | ||
1.一種圖像處理方法，其特征在于，包括：
利用矩陣式多孔成像系統(tǒng)獲取目標(biāo)物對應(yīng)的目標(biāo)物多孔圖像，所述目標(biāo)物多孔圖像含有多個目標(biāo)物小孔像斑；
基于矩陣式多孔成像系統(tǒng)的拼接參數(shù)，對所述目標(biāo)物小孔像斑進(jìn)行倒像糾正，得到多個倒像糾正后的目標(biāo)物小孔像斑；
基于矩陣式多孔成像系統(tǒng)的拼接參數(shù)，對倒像糾正后的目標(biāo)物小孔像斑進(jìn)行拼接，生成目標(biāo)圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在對所述目標(biāo)物小孔像斑進(jìn)行倒像糾正之前還包括獲取拼接參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述獲取拼接參數(shù)包括：
獲取計算參數(shù)；
使用所述計算參數(shù)計算得到拼接參數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述計算參數(shù)為在設(shè)計所述矩陣式多孔成像系統(tǒng)時預(yù)設(shè)的參數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取計算參數(shù)包括：
獲取標(biāo)準(zhǔn)多孔圖像，所述標(biāo)準(zhǔn)多孔圖像包括預(yù)設(shè)模式多孔圖像或者面光源多孔圖像；
根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)多孔圖像測算所述計算參數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，獲取預(yù)設(shè)模式多孔圖像包括：
利用矩陣式多孔成像系統(tǒng)獲取預(yù)設(shè)模式對應(yīng)的預(yù)設(shè)模式多孔圖像，所述預(yù)設(shè)模式多孔圖像含有多個預(yù)設(shè)模式小孔像斑。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，獲取面光源多孔圖像包括：
利用矩陣式多孔成像系統(tǒng)在均勻面光源發(fā)光條件下形成面光源多孔圖像，所述面光源多孔圖像含有多個亮場小孔像斑。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)模式由包含兩個方向或者多個方向線條的單個模式按照周期長度重復(fù)排布構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述周期長度是小孔周期的正整數(shù)倍。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述方法，其特征在于，所述利用矩陣式多孔成像系統(tǒng)獲取預(yù)設(shè)模式對應(yīng)的預(yù)設(shè)模式多孔圖像包括：
將具有預(yù)設(shè)模式的標(biāo)準(zhǔn)物放置于矩陣式多孔成像系統(tǒng)的圖像采集器上表面，利用外置光源照射所述具有預(yù)設(shè)模式的標(biāo)準(zhǔn)物使之透射成像，獲得所述預(yù)設(shè)模式多孔圖像；或者，
在矩陣式多孔成像系統(tǒng)的圖像采集器上表面不放置任何物體，利用具有預(yù)設(shè)模式的外置結(jié)構(gòu)光源照射所述矩陣式多孔成像系統(tǒng)的圖像采集器上表面，使所述具有預(yù)設(shè)模式的外置結(jié)構(gòu)光源通過所述矩陣式多孔成像系統(tǒng)成像，獲得所述預(yù)設(shè)模式多孔圖像；或者，
將具有預(yù)設(shè)模式的標(biāo)準(zhǔn)物放置于矩陣式多孔成像系統(tǒng)的圖像采集器上表面，利用內(nèi)置光源照射所述具有預(yù)設(shè)模式的標(biāo)準(zhǔn)物使之反射成像，獲得所述預(yù)設(shè)模式多孔圖像；或者，
在矩陣式多孔成像系統(tǒng)的圖像采集器上表面不放置任何物體，使具有顯示功能的內(nèi)置光源發(fā)出具有預(yù)設(shè)模式的光線照射所述矩陣式多孔成像系統(tǒng)的圖像采集器上表面反射成像，獲得所述預(yù)設(shè)模式多孔圖像。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述方法，其特征在于，使用顯示屏作為所述外置光源、所述具有預(yù)設(shè)模式的外置結(jié)構(gòu)光源、所述內(nèi)置光源或所述具有顯示功能的內(nèi)置光源。
12.根據(jù)權(quán)利要求3所述圖像處理方法，其特征在于，使用所述計算參數(shù)計算得到拼接參數(shù)包括：
使用所述計算參數(shù)計算得到小孔位置和最大無重疊像方視場尺寸；
使用所述最大無重疊像方視場尺寸計算成像分辨率。
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