[發(fā)明專利]一種激光合成系統(tǒng)及高功率激光實(shí)驗(yàn)裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711082339.0 | 申請日： | 2017-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN107863684A | 公開（公告）日： | 2018-03-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 侯杰;李旭 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京華岸科技有限公司 |
| 主分類號： | H01S3/23 | 分類號： | H01S3/23 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11371 | 代理人： | 王暉 |
| 地址： | 100176 北京市北京經(jīng)濟(jì)技*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 激光 合成 系統(tǒng) 功率 實(shí)驗(yàn) 裝置 | ||
1.一種激光合成系統(tǒng)，其特征在于，包括：脈沖種子源、分光模塊、第一放大模塊、第二放大模塊和合束模塊；
所述脈沖種子源，用于發(fā)射激光脈沖，并將所述激光脈沖傳輸至所述分光模塊；
所述分光模塊，用于接收所述激光脈沖，根據(jù)偏振特性將所述激光脈沖分離為第一光波和第二光波，并將所述第一光波和所述第二光波對應(yīng)傳輸至所述第一放大模塊和所述第二放大模塊，其中，所述第一光波和所述第二光波的偏振方向相互垂直；
所述第一放大模塊，用于接收所述第一光波，對所述第一光波進(jìn)行放大，并將放大后的第一光波傳輸至所述合束模塊；
所述第二放大模塊，用于接收所述第二光波，對所述第二光波進(jìn)行放大，并將放大后的第二光波傳輸至所述合束模塊；
所述合束模塊，用于分別接收所述第一光波和所述第二光波，將所述第一光波和所述第二光波進(jìn)行合成，得到合成后的激光脈沖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光合成系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光波為S型光波，所述第二光波為P型光波，其中，所述S型光波為所述激光脈沖的電場振動(dòng)方向垂直于入射面的分量，所述P型光波為所述激光脈沖的電場振動(dòng)方向平行于所述入射面的分量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光合成系統(tǒng)，其特征在于，所述第一放大模塊和所述第二放大模塊均由一個(gè)或多個(gè)子放大模塊以串聯(lián)方式構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光合成系統(tǒng)，其特征在于，所述脈沖種子源包括偏振脈沖種子源和非偏振脈沖種子源中的任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光合成系統(tǒng)，其特征在于，所述激光脈沖的寬度范圍為0.1fs至100ms。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光合成系統(tǒng)，其特征在于，所述激光脈沖的波長范圍為0.1μm至100μm。
7.一種激光合成系統(tǒng)，其特征在于，包括：脈沖種子源、分光模塊、第一放大模塊、第二放大模塊、第一頻率變換模塊、第二頻率變換模塊和合束模塊；
所述脈沖種子源，用于發(fā)射激光脈沖，并將所述激光脈沖傳輸至所述分光模塊；
所述分光模塊，用于接收所述激光脈沖，根據(jù)偏振特性將所述激光脈沖分離為第一光波和第二光波，并將所述第一光波和所述第二光波對應(yīng)傳輸至所述第一放大模塊和所述第二放大模塊，其中，所述第一光波和所述第二光波的偏振方向相互垂直；
所述第一放大模塊，用于接收所述第一光波，對所述第一光波進(jìn)行放大，并將放大后的第一光波傳輸至所述第一頻率變換模塊；
所述第一頻率變換模塊，用于接收所述第一放大模塊傳輸?shù)牡谝还獠ǎ瑢λ龅谝还獠ㄟM(jìn)行頻率變換，并將得到的第三光波傳輸至所述合束模塊，其中，所述第三光波與所述第一光波的頻率不相同；
所述第二放大模塊，用于接收所述第二光波，對所述第二光波進(jìn)行放大，并將放大后的第二光波傳輸至所述第二頻率變換模塊；
所述第二頻率變換模塊，用于接收所述第二放大模塊傳輸?shù)牡诙獠ǎ瑢λ龅诙獠ㄟM(jìn)行頻率變換，并將得到的第四光波傳輸至所述合束模塊，其中，所述第四光波與所述第二光波的頻率不相同；
所述合束模塊，用于分別接收所述第三光波和所述第四光波，將所述第三光波和所述第四光波進(jìn)行合成，得到合成后的激光脈沖。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光合成系統(tǒng)，其特征在于，所述第一放大模塊和所述第二放大模塊均由一個(gè)或多個(gè)子放大模塊以串聯(lián)方式構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光合成系統(tǒng)，其特征在于，所述第一頻率變換模塊和所述第二頻率變換模塊均由一個(gè)或多個(gè)子頻率變換模塊以串聯(lián)方式構(gòu)成。
10.一種高功率激光實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的激光合成系統(tǒng)。
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