[發(fā)明專利]一種判斷擋板走位精度的掩膜版及其方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711081070.4
• 申請日: 2017-11-03
• 公開（公告）號: CN107748479A
• 公開（公告）日: 2018-03-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐勇
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F1/44
• 分類號: G03F1/44
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司44202
• 代理人: 郝傳鑫,熊永強

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于平板顯示制造領(lǐng)域，具體涉及一種判斷擋板走位精度的掩膜版及其方法。

背景技術(shù)

在LTPS/OLED制造業(yè)中，Array工藝是重要的工藝步驟之一，包括沉積、清洗、PR涂附、曝光、顯影、刻蝕、PR剝離、檢查。而曝光工藝是利用曝光機對涂好光刻膠的玻璃基板進行曝光，利用光刻膠的光敏性將掩膜版的圖像投影到玻璃基板上。曝光工藝在整個Array工藝中占據(jù)著重要的作用。擋板是曝光機中一個重要的組件，其作用是遮擋掩膜版上不需要的區(qū)域，防止基板上的圖案過大或過小。但遮光擋板是通過機械驅(qū)動的，其驅(qū)動位置受機械因素影響，在生產(chǎn)中可能會出現(xiàn)偏差。當(dāng)擋板走位出現(xiàn)偏差時，會導(dǎo)致基板上的圖案受到影響，使最終的產(chǎn)品質(zhì)量下降。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于此，本發(fā)明提供了一種判斷擋板走位精度的掩膜版，包括了具有第一標(biāo)尺的的第一曝光區(qū)和第二標(biāo)尺的第二曝光區(qū)。在實際曝光工藝中，可以通過通過曝光到基板上的圖案來判斷第一擋板和第二擋板的走位情況。

具體地，本發(fā)明第一方面提供了一種判斷擋板走位精度的掩膜版，包括主曝光區(qū)、設(shè)置于所述主曝光區(qū)相對的兩側(cè)的第一曝光區(qū)、第二曝光區(qū)、所述第一曝光區(qū)包括第一標(biāo)尺，所述第一標(biāo)尺包括第一尺身、第一分界線、第一刻度，分布在所述第一分界線兩側(cè)的所述第一刻度分別設(shè)置于所述第一尺身的兩側(cè)，所述第二曝光區(qū)包括第二標(biāo)尺，所述第二標(biāo)尺包括第二尺身、第二分界線、第二刻度，分布在所述第二分界線兩側(cè)的所述第二刻度分別設(shè)置于所述第二尺身的兩側(cè)，所述第一分界線與所述第二分界線與所述主曝光區(qū)相對的兩個邊緣重合，所述第一尺身和所述第二尺身共線，位于所述主曝光區(qū)的所述第一刻度與所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直線的同側(cè)。

其中，所述第一標(biāo)尺還包括第一刻度數(shù)字，所述第一刻度數(shù)字設(shè)置于所述第一刻度處，所述第一刻度數(shù)字從所述第一尺身的一側(cè)開始依次呈等差數(shù)列遞增或遞減，所述第二標(biāo)尺還包括第二刻度數(shù)字，所述第二刻度數(shù)字設(shè)置于所述第二刻度處，所述第二刻度數(shù)字從所述第二尺身的一側(cè)開始依次呈等差數(shù)列遞減或遞增。

其中，所述第一刻度數(shù)字還可以從所述第一分界線處的刻度數(shù)字開始依次向第一分界線兩側(cè)呈等差數(shù)列遞增或遞減，所述第二刻度數(shù)字還可以從所述第二分界線處的刻度數(shù)字開始依次向第二分界線兩側(cè)呈等差數(shù)列遞增或遞減。

其中，所述第一標(biāo)尺還包括一對字母標(biāo)注，所述一對字母標(biāo)注設(shè)置于所述尺身的相對的兩端。

其中，所述第一標(biāo)尺和所述第二標(biāo)尺的數(shù)量均為至少兩個，所述至少兩個第一標(biāo)尺彼此間隔分布在所述主曝光共的一側(cè)，所述至少兩個第二標(biāo)尺與分別與所述至少兩個第一標(biāo)尺一一對應(yīng)設(shè)置在所述主曝光區(qū)的另一側(cè)。

本發(fā)明第二方面提供了一種判斷擋板走位精度的方法，包括以下步驟：

提供一掩膜版，第一擋板、第二擋板和基板，相對設(shè)置在所述掩膜版相對的兩側(cè)的所述第一擋板和所述第二擋板設(shè)置于所述掩膜版和所述基板之間；

所述掩膜版包括主曝光區(qū)、設(shè)置于所述主曝光區(qū)相對的兩側(cè)的第一曝光區(qū)、第二曝光區(qū)、所述第一曝光區(qū)包括第一標(biāo)尺，所述第一標(biāo)尺包括第一尺身、第一分界線、第一刻度，分布在所述第一分界線兩側(cè)的所述第一刻度分別設(shè)置于所述第一尺身的兩側(cè)，所述第二曝光區(qū)包括第二標(biāo)尺，所述第二標(biāo)尺包括第二尺身、第二分界線、第二刻度，分布在所述第二分界線兩側(cè)的所述第二刻度分別設(shè)置于所述第二尺身的兩側(cè)，所述第一分界線與所述第二分界線與所述主曝光區(qū)相對的兩個邊緣重合，所述第一尺身和所述第二尺身共線，位于所述主曝光區(qū)的所述第一刻度與所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直線的同側(cè)。當(dāng)掃描曝光時，通過曝光到基板上的圖案來判斷第一擋板和第二擋板的走位情況。

其中，走位正常時所述第一擋板和所述第二擋板分別位于所述第一分界線與所述第二分界線處，若所述基板上圖案中的主曝光區(qū)內(nèi)的所述第一標(biāo)尺和/或所述第二標(biāo)尺出現(xiàn)缺失，則所述第一擋板和/或所述第二擋板走位溢出。

其中，走位正常時所述第一擋板和所述第二擋板分別位于所述第一分界線與所述第二分界線處，若所述基板上圖案中出現(xiàn)主曝光區(qū)之外的所述第一標(biāo)尺和/或所述第二標(biāo)尺，則所述第一擋板和/或所述第二擋板走位不足。

其中，所述掃描曝光包括4掃描曝光或6掃描曝光。

本發(fā)明第三方面提供了一種曝光機，包括本發(fā)明第一方面所提供的掩膜版。