[發明專利]色譜材料有效
| 申請號: | 201711077635.1 | 申請日: | 2013-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN107754776B | 公開(公告)日: | 2021-09-21 |
| 發明(設計)人: | K.D.懷恩罕;M.F.莫里斯;D.W.布勞斯米歇;J.F.希爾;J.N.費爾蔡爾德 | 申請(專利權)人: | 沃特世科技公司 |
| 主分類號: | B01J20/30 | 分類號: | B01J20/30;B01D15/20;B01D15/26;B01D15/40 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周齊宏 |
| 地址: | 美國麻*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 色譜 材料 | ||
1.制備色譜固定相材料的方法,所述色譜固定相材料只有二醇基團存在,所述方法包括:
使芯表面與具有側鏈反應基團的硅烷偶聯劑反應;
使包含一個或更多個親水的、極性的、可電離的和/或帶電荷的官能團的第二化學試劑與側鏈反應基團反應;并且
中和任何剩余的未反應的側鏈反應基團,
由此產生只有二醇基團存在的色譜固定相材料。
2.權利要求1的方法,其中所述芯表面包括雜化多孔顆粒。
3.權利要求1的方法,其中所述硅烷偶聯劑為環氧丙氧丙基三甲氧基硅烷/甲醇。
4.權利要求1的方法,其中中和步驟包括相繼使用水和甲醇過濾和洗滌。
5.權利要求1的方法,其中來自硅烷的色譜固定相材料的總覆蓋范圍為0.93-3.37μmol/m2。
6.一種用于在超臨界流體色譜、亞臨界流體色譜、基于二氧化碳的色譜中減輕或防止保留漂移的方法,其包括:使用色譜裝置色譜地分離樣本,所述色譜裝置包括由權利要求1的方法制備的只有二醇基團存在的色譜固定相材料。
7.制備色譜固定相材料的方法,所述色譜固定相材料沒有明顯的來自環氧化物的覆蓋范圍,所述方法包括:
使芯表面與具有側鏈反應基團的硅烷偶聯劑反應;
使包含一個或更多個親水的、極性的、可電離的和/或帶電荷的官能團的第二化學試劑與側鏈反應基團反應;并且
中和任何剩余的未反應的側鏈反應基團,
由此產生沒有明顯的來自環氧化物的覆蓋范圍的色譜固定相材料。
8.權利要求7的方法,其中所述芯表面包括雜化多孔顆粒。
9.權利要求7的方法,其中所述硅烷偶聯劑為環氧丙氧丙基三甲氧基硅烷/甲醇。
10.權利要求7的方法,其中中和步驟包括相繼使用水和甲醇過濾和洗滌。
11.權利要求7的方法,其中來自硅烷的色譜固定相材料的總覆蓋范圍為0.93-3.37μmol/m2。
12.一種用于在超臨界流體色譜、亞臨界流體色譜、基于二氧化碳的色譜中減輕或防止保留漂移的方法,其包括:使用色譜裝置色譜地分離樣本,所述色譜裝置包括由權利要求7的方法制備的沒有明顯的來自環氧化物的覆蓋范圍的色譜固定相材料。
13.一種色譜固定相材料,其通過權利要求1所述方法制備,并包括只有二醇基團存在的、總表面覆蓋范圍為0.93-3.37μmol/m2的有機-無機雜化孔材料,其中所述色譜固定相材料在超臨界流體色譜、亞臨界流體色譜、或基于二氧化碳的色譜中減輕或防止保留漂移。
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