[發明專利]一種鉆石原石磨液水基清洗劑

在審

• 申請號: 201711075230.4
• 申請日: 2017-11-06
• 公開（公告）號: CN109749867A
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發明（設計）人: 張王震
• 申請（專利權）人: 張王震
• 主分類號: C11D1/72
• 分類號: C11D1/72;C11D1/825;C11D3/60;C11D3/04;C11D3/12;C11D3/16;C11D3/30;C11D3/36;C11D3/37
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本發明提供一種鉆石原石磨液水基清洗劑，鉆石原石研磨液專用的水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，第一清洗劑的組分包括：氫氧化鉀、鍍鉻添加劑、膽胺、分散劑、復配表面活性劑，余量為水，第二清洗劑中的組分包括：弱酸、緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑、水溶性納米二氧化硅，余量為水。制備方法為：按照比例加入鍍鉻添加劑、氫氧化鉀和水，攪拌讓其充分反應，然后依次加入膽胺、分散劑、復配表面活性劑，攪拌得到第一清洗劑，按照比例加入弱酸和水，攪拌均勻，依次加入緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑和水溶性納米二氧化硅，攪拌至完全溶解，得到第二清洗劑，第一清洗劑和第二清洗劑組成鉆石原石研磨液專用的水基清洗劑。

技術領域

本發明屬于清洗劑材料技術領域，具體涉及一種鉆石原石研磨液專用的水基清洗劑。

背景技術

清洗劑是用于清除污垢的化學品，通常分為工業清洗劑和日用清洗劑。在工業生產中，金屬制件上常會留有灰塵、切削物、磨料、研磨液、手汗、鹽跡、酸堿、動植物油脂和礦物油等殘留物，隨著科學技術的不斷提高，殘留物的品種越來越多，對清洗劑的清洗程度的要求也越來越高，既要將納米級的粉末清除，也不能使金屬制件生銹。水基清洗劑依據應用場合、洗滌對象以及殘留物的性質，洗滌機理也比較復雜，一般的水基清洗劑包括表面活性劑、緩蝕劑、pH調節劑、穩定劑、溶劑和其他助劑，一般把洗滌過程分為三部分：一是浸透過程，二是擴張、分散、浮化和可溶化過程，三是除去過程。

目前，研磨液根據磨料的不同可分為鉆石原石研磨液、二氧化硅研磨液、氧化鈰研磨液等，鉆石原石研磨液中含有許多細小的礦物質粉，這些礦物質粉在研磨過程中會殘留在金屬制件的表面，形成非常細小的納米級粉末，如果不把這些細小的納米級粉末及時清理，金屬制件在使用的過程中，金屬制件的表面會受到磨損，繼而可能影響產品的性能，因此制備針對納米級粉末殘留物的清洗劑顯得十分必要。

中國專利CN 105925389A公開的稀土研磨液專用清洗劑，主要包括NTA或者EDTA絡合劑、烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪酸甲酯乙基氧化物、失水山梨醇酯表面活性劑、碳酸鈉和碳酸氫鈉的緩沖劑和水組成，制備的清洗劑分散性和吸附性好，清洗效果顯著，對油脂的清洗率提高，對工件表面無明顯的研磨液殘留。但是針對納米級的殘留的清洗效果并不顯著。中國專利CN 102816660A公開的一種納米水基清洗劑及其制備方法，該納米水基清洗劑包括碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、磷酸二氫鈉或者五水偏硅酸鈉皂化劑、聚乙二醇、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基磺酸鈉等表面活性劑、三膽胺等緩蝕劑、硅醚或者聚醚有機硅納米消泡劑、水溶性納米二氧化硅和水，該清洗劑的適用范圍廣泛，不含揮發性有機溶劑，清洗過程泡沫少、不輔食被清洗物件，但是很對細小的納米級粉末的清洗能力依然有限。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種鉆石原石研磨液專用的水基清洗劑及其制備方法，該水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，第一清洗劑的組分包括：氫氧化鉀、復配絡合劑、膽胺、分散劑、復配表面活性劑，余量為水，第二清洗劑中的組分包括：弱酸、緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑、水溶性納米二氧化硅，余量為水。采用兩種清潔劑，清洗效果更佳徹底，對細小的納米級粉末的清除率高，且不對工件設備造成腐蝕和污染，清洗效果好。

為解決上述技術問題，本發明的技術方案是：

一種鉆石原石研磨液專用的水基清洗劑，所述鉆石原石研磨液專用的水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，所述第一清洗劑的組分，按重量百分比計，包括：氫氧化鉀3-10％、鍍鉻添加劑3-8％、膽胺1-5％、分散劑1-5％、復配表面活性劑3-7％，余量為水，所述鍍鉻添加劑為HEDP，所述膽胺為一膽胺，所述分散劑為聚馬來酸鹽，所述復配表面活性劑為RD129B。

作為上述技術方案的優選，所述第二清洗劑的使用在第一清洗劑之后。