[發明專利]高硬度減反射鍍膜鏡片在審
| 申請號： | 201711074939.2 | 申請日： | 2017-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN107703567A | 公開（公告）日： | 2018-02-16 |
| 發明（設計）人： | 徐厚群;陳波;趙衛平;劉佳俊 | 申請（專利權）人： | 廣東弘景光電科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/14 | 分類號： | G02B1/14 |
| 代理公司： | 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙)44327 | 代理人： | 石仁 |
| 地址： | 528400 廣東省中山市火炬*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 硬度 反射 鍍膜 鏡片 | ||
【權利要求書】：
1.高硬度減反射鍍膜鏡片，包括玻璃基材，其特征在于，玻璃基材的上表面由下而上依次設有：第一Si膜層、第一Nb2O5膜層、第二Si膜層、第二Nb2O5膜層、第三Si膜層、第三Nb2O5膜層、以及表面Si膜層。
2.如權利要求1所述的高硬度減反射鍍膜鏡片，其特征在于，第一Si膜層的厚度為5nm。
3.如權利要求1所述的高硬度減反射鍍膜鏡片，其特征在于，第一Nb2O5膜層的厚度為13.4nm。
4.如權利要求1所述的高硬度減反射鍍膜鏡片，其特征在于，第二Si膜層的厚度為34.95nm。
5.如權利要求1所述的高硬度減反射鍍膜鏡片，其特征在于，第二Nb2O5膜層的厚度為53.25nm。
6.如權利要求1所述的高硬度減反射鍍膜鏡片，其特征在于，第三Si膜層的厚度為10nm。
7.如權利要求1所述的高硬度減反射鍍膜鏡片，其特征在于，第三Nb2O5膜層的厚度為40.96nm。
8.如權利要求1所述的高硬度減反射鍍膜鏡片，其特征在于，表面Si膜層的厚度為91.44nm。
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