[發明專利]激光沉積系統

在審

• 申請號: 201711072923.8
• 申請日: 2017-11-04
• 公開（公告）號: CN107604321A
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 謝宏林
• 申請（專利權）人: 惠州市宏策企業管理咨詢有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28;C23C14/04
• 代理公司: 惠州市超越知識產權代理事務所(普通合伙)44349
• 代理人: 陶遠恒

1.一種激光沉積系統，其特征在于，包括激光源、一驅動機構、一第一反射鏡、至少兩個第二反射鏡、真空室、至少兩個用于固定不同的源材料靶材的第一固定平臺以及用于沉積復合材料的基片；

所述第一固定平臺以及基片均設置于所述真空室內，所述至少兩個第一固定平臺分別與所述基片的預設區域相對，所述真空室設置有通光部，所述第二反射鏡與所述第一反射鏡平行，所述激光源與所述第一反射鏡的出光方向呈預設夾角；

所述驅動機構與所述第一反射鏡連接，以驅動所述第一反射鏡沿著所述激光源的出光方向移動，所述第一反射鏡用于將所述激光源發出的光反射至所述至少兩個第二反射鏡中的一個第二反射鏡，進而使得所述第二反射鏡將第一反射鏡反射的激光通過所述通光部反射至對應的所述第一固定平臺。

2.根據權利要求1所述的激光沉積系統，其特征在于，還包括一控制組件，所述控制組件與所述激光源以及所述一驅動機構電連接。

3.根據權利要求2所述的激光沉積系統，其特征在于，所述基片上與所述第一固定平臺相對的一面貼有掩模。

4.根據權利要求3所述的激光沉積系統，其特征在于，所述掩模上設置有多個呈矩陣分布的沉積孔。

5.根據權利要求2所述的激光沉積系統，其特征在于，所述基片的遠離所述第一固定平臺的一面設置有加熱組件。

6.根據權利要求4所述的激光沉積系統，其特征在于，所述第一固定平臺內部設置有加熱組件，所述加熱組件包括多個呈矩形陣列分布的加熱元件，該多個加熱元件分別與該多個沉積孔相對。

7.根據權利要求1所述的激光沉積系統，其特征在于，所述真空室的壁上設置有至少兩個通孔，所述通光部包括覆蓋在所述至少兩個通孔處的至少兩個石英玻璃。

8.根據權利要求2所述的激光沉積系統，其特征在于，還包括用于提供惰性氣體的儲氣結構以及用于抽出惰性氣體的真空泵；所述真空室的側壁上開設進氣孔以及出氣孔，所述儲氣結構通過所述進氣孔與所述真空室連通，所述真空泵通過所述出氣孔與所述真空室連通。

9.根據權利要求8所述的激光沉積系統，其特征在于，還包括氣壓傳感器，所述氣壓傳感器、所述儲氣結構以及所述真空泵分別與所述控制組件電連接。

10.根據權利要求1所述的激光沉積系統，其特征在于，還包括一第二固定平臺，所述至少兩個第一固定平臺固定設置于所述第二固定平臺上。