[發(fā)明專利]復(fù)合材料制作設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711072241.7
• 申請(qǐng)日: 2017-11-03
• 公開（公告）號(hào): CN107630195A
• 公開（公告）日: 2018-01-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝宏林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 惠州市宏策企業(yè)管理咨詢有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/28
• 分類號(hào): C23C14/28;C23C14/04;C23C14/56
• 代理公司: 惠州市超越知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44349
• 代理人: 陶遠(yuǎn)恒

1.一種復(fù)合材料制作設(shè)備，其特征在于，包括激光源、至少兩個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、至少兩個(gè)第一反射鏡、真空室、至少兩個(gè)用于固定不同的源材料靶材的第一固定平臺(tái)以及用于沉積復(fù)合材料的基片；

所述第一固定平臺(tái)以及基片均設(shè)置于所述真空室內(nèi)，所述至少兩個(gè)第一固定平臺(tái)分別與所述基片的預(yù)設(shè)區(qū)域相對(duì)，所述真空室設(shè)置有通光部；

所述至少兩個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)分別與所述至少兩個(gè)第一反射鏡一一對(duì)應(yīng)地連接，所述至少三個(gè)第一反射鏡分別與所述至少兩個(gè)第一固定平臺(tái)對(duì)應(yīng)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)對(duì)應(yīng)所述第一反射鏡移動(dòng)以避開所述激光源發(fā)出的激光，使得所述激光源發(fā)出的激光射至對(duì)應(yīng)的第一反射鏡處，該對(duì)應(yīng)的第一反射鏡將該激光反射至對(duì)應(yīng)的所述第一固定平臺(tái)處；

還包括用于提供惰性氣體的儲(chǔ)氣結(jié)構(gòu)以及用于抽出惰性氣體的真空泵；所述真空室的側(cè)壁上開設(shè)進(jìn)氣孔以及出氣孔，所述儲(chǔ)氣結(jié)構(gòu)通過所述進(jìn)氣孔與所述真空室連通，所述真空泵通過所述出氣孔與所述真空室連通；

還包括氣壓傳感器，所述氣壓傳感器、所述儲(chǔ)氣結(jié)構(gòu)以及所述真空泵分別與所述控制組件電連接；

還包括一第二固定平臺(tái)，所述至少兩個(gè)第一固定平臺(tái)固定設(shè)置于所述第二固定平臺(tái)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料制作設(shè)備，其特征在于，還包括一控制組件，所述控制組件與所述激光源以及所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)電連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合材料制作設(shè)備，其特征在于，所述基片上與所述第一固定平臺(tái)相對(duì)的一面貼有掩模。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的復(fù)合材料制作設(shè)備，其特征在于，所述掩模上設(shè)置有多個(gè)呈矩陣分布的沉積孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合材料制作設(shè)備，其特征在于，所述基片的遠(yuǎn)離所述第一固定平臺(tái)的一面設(shè)置有加熱組件。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合材料制作設(shè)備，其特征在于，所述第一固定平臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有加熱組件，所述加熱組件包括多個(gè)呈矩形陣列分布的加熱元件，該多個(gè)加熱元件分別與該多個(gè)沉積孔相對(duì)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料制作設(shè)備，其特征在于，所述真空室的壁上設(shè)置有至少兩個(gè)通孔，所述通光部包括覆蓋在所述至少兩個(gè)通孔處的至少兩個(gè)石英玻璃。