[發明專利]測量單元及氣體分析裝置

有效

• 申請號: 201711070303.0
• 申請日: 2012-05-17
• 公開（公告）號: CN107991250B
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 右近壽一郎;井戶琢也;大西敏和;辻本敏行
• 申請（專利權）人: 株式會社堀場制作所
• 主分類號: G01N21/31
• 分類號: G01N21/31
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 閻文君;李雪春

1.一種用于分析裝置的測量單元，所述分析裝置分析試樣氣體中的規定成分濃度，

所述測量單元的特征在于包括：

照射部，向所述試樣氣體中照射測量光；

受光部，在受光面接收所述測量光；

凈化氣體導入部，從與流過所述試樣氣體的煙囪連接的空間的相對于將所述測量單元連接到所述煙囪的凸緣與所述煙囪相反的一側導入凈化氣體，以使所述凈化氣體在與流過所述試樣氣體的煙囪連接的空間中形成與所述試樣氣體混合的空間；

聚光透鏡，配置在所述測量光從所述照射部到所述受光部的光路上的所述凈化氣體與所述試樣氣體混合產生溫度梯度變化的空間與所述受光部之間，使傳送路徑變化的所述測量光聚光到所述受光部的所述受光面內，所述傳送路徑變化是由所述試樣氣體和所述凈化氣體的溫度差產生的熱透鏡效應導致的；及

光學窗，所述光學窗配置在接近所述聚光透鏡的前方，用于至少保護所述聚光透鏡，

所述凈化氣體導入部將所述凈化氣體導入到所述光學窗附近，

所述受光部具有多層結構，

所述聚光透鏡具有使朝向所述受光部的所述受光面的入射角變大來抑制多重反射的數值孔徑，

所述受光部相對于所述聚光透鏡傾斜配置，使得所述受光面和所述聚光透鏡的成像面所成的角度為抑制在所述受光部的所述多層結構中的所述多重反射以及伴隨所述多重反射的干涉的角度。

2.根據權利要求1所述的測量單元，其特征在于，

所述聚光透鏡配置在接近所述受光部的前方，

所述凈化氣體導入部將所述凈化氣體導入到接近所述光學窗的前方。

3.根據權利要求1或2所述的測量單元，其特征在于，

所述測量單元還包括筒狀的探頭管，在所述探頭管的一個端部配置有反射鏡，在所述探頭管的另一個端部配置有所述照射部和所述受光部，所述探頭管設置有將所述試樣氣體導入內部的導入孔，

所述照射部向所述反射鏡照射所述測量光，

所述受光部接收通過所述反射鏡而被反射的所述測量光，

所述凈化氣體導入部將所述凈化氣體導入所述探頭管內，

所述照射部向導入所述探頭管內的所述試樣氣體中照射所述測量光。

4.根據權利要求1或2所述的測量單元，其特征在于，所述聚光透鏡的所述數值孔徑在0.08以上。

5.根據權利要求3所述的測量單元，其特征在于，所述聚光透鏡的所述數值孔徑在0.08以上。

6.根據權利要求4所述的測量單元，其特征在于，所述受光面和所述聚光透鏡的成像面所成的角度在10(°)以上。

7.根據權利要求5所述的測量單元，其特征在于，所述受光面和所述聚光透鏡的成像面所成的角度在10(°)以上。

8.一種氣體分析裝置，其特征在于包括：

權利要求1或2所述的測量單元；以及

計算處理裝置，基于從所述受光部接收到的信號，計算試樣氣體中的規定成分濃度。

9.一種氣體分析裝置，其特征在于包括：

權利要求3所述的測量單元；以及

計算處理裝置，基于從所述受光部接收到的信號，計算試樣氣體中的規定成分濃度。

10.一種氣體分析裝置，其特征在于包括：

權利要求4所述的測量單元；以及

計算處理裝置，基于從所述受光部接收到的信號，計算試樣氣體中的規定成分濃度。

11.一種用于分析裝置的測量單元，所述分析裝置分析試樣氣體中的規定成分濃度，

所述測量單元的特征在于包括：

照射部，向所述試樣氣體中照射測量光；

受光部，具有多層結構，所述受光部在受光面接收所述測量光；以及

聚光透鏡，配置在所述測量光從所述照射部到所述受光部的光路上，

所述受光部相對于所述聚光透鏡傾斜配置，以使所述受光面和所述聚光透鏡的成像面所成的角度為抑制在所述受光部的所述多層結構中的多重反射以及伴隨所述多重反射的干涉的10(°)以上的角度，

所述聚光透鏡具有使朝向所述受光部的所述受光面的入射角變大來抑制多重反射的數值孔徑。