[發(fā)明專利]一種磁流變拋光加工系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711068868.5
• 申請(qǐng)日: 2017-11-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109746769A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張學(xué)軍;薛棟林;張?chǎng)?/a>;李龍響;宋馳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): B24B1/00
• 分類號(hào): B24B1/00;B24B57/02
• 代理公司: 深圳市科進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316
• 代理人: 趙勍毅

1.一種磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，包括第一機(jī)械臂、安裝在所述第一機(jī)械臂一端的磁流變拋光輪、第二機(jī)械臂、安裝于所述第二機(jī)械臂一端的用于提供磁流變液的磁流變循環(huán)系統(tǒng)、用于放置工件的工作臺(tái)以及與所述磁流變循環(huán)系統(tǒng)的出口連通用于輸送所述磁流變液的循環(huán)供給回路；所述循環(huán)供給回路與所述磁流變拋光輪連接，當(dāng)所述第一機(jī)械臂帶動(dòng)所述磁流變拋光輪進(jìn)行拋光加工操作時(shí)所述第二機(jī)械臂帶動(dòng)所述磁流變循環(huán)系統(tǒng)移動(dòng)至所述磁流變拋光輪的預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，所述預(yù)設(shè)范圍的半徑小于等于所述循環(huán)供給回路的最大供液距離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述第一機(jī)械臂和所述第二機(jī)械臂均為具有六自由度的機(jī)械臂。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述工作臺(tái)設(shè)置在所述第一機(jī)械臂和所述第二機(jī)械臂之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述磁流變循環(huán)系統(tǒng)可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在所述第二機(jī)械臂的一端。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述磁流變循環(huán)系統(tǒng)包括儲(chǔ)液罐、設(shè)置在所述儲(chǔ)液罐中的攪拌器、輸送泵及回收泵，所述循環(huán)供給回路包括與所述儲(chǔ)液罐連通的注液管及回收管、設(shè)置在所述注液管末端的噴嘴及設(shè)置在所述回收管末端的收集器，所述輸送泵設(shè)置在所述注液管上在所述注液管上，所述回收泵設(shè)置在所述回收管上，所述噴嘴和所述收集器分別對(duì)稱設(shè)置在所述磁流變拋光輪的兩側(cè)的第一機(jī)械臂上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴對(duì)準(zhǔn)所述磁流變拋光輪的邊緣。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴對(duì)準(zhǔn)所述磁流變拋光輪的切線方向。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述收集器和所述磁流變拋光輪之間貼合或具有間隙。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述注液管及所述回收管均設(shè)置在所述磁流變循環(huán)系統(tǒng)的底端。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁流變拋光加工系統(tǒng)，其特征在于，所述磁流變循環(huán)系統(tǒng)還包括壓力流量測(cè)量裝置，所述壓力流量測(cè)量裝置與所述注液管連通。