[發(fā)明專利]直接收集-熱離子發(fā)射-熱電同位素電池及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711064719.1 | 申請日: | 2017-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN108538422B | 公開(公告)日: | 2021-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何佳清;周毅;李公平;張世旭;陳躍星;孫鑫;鄂得俊 | 申請(專利權(quán))人: | 南方科技大學(xué) |
| 主分類號: | G21H1/10 | 分類號: | G21H1/10 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 趙天月 |
| 地址: | 518055 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 直接 收集 離子 發(fā)射 熱電 同位素 電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種直接收集-熱離子發(fā)射-熱電同位素電池,其特征在于,包括:
換能結(jié)構(gòu),所述換能結(jié)構(gòu)包括:
金屬襯底,所述金屬襯底呈柱狀,所述金屬襯底的兩端分別為正極端和負(fù)極端;
放射源鍍層,所述放射源鍍層形成在所述金屬襯底的外周面上,所述金屬襯底的負(fù)極端與所述放射源鍍層的一端平齊,所述金屬襯底的正極端突出所述放射源鍍層的另一端;
第一密封墊,所述第一密封墊呈環(huán)狀,所述第一密封墊套設(shè)在所述金屬襯底的正極端且與所述放射源鍍層相抵;
第二密封墊,所述第二密封墊設(shè)置在所述金屬襯底的負(fù)極端和所述放射源鍍層的端面上;
第一電荷收集板,所述第一電荷收集板套設(shè)在所述放射源鍍層的外周,所述第一電荷收集板一端的端面與所述第一密封墊相抵,所述第一電荷收集板另一端的內(nèi)周面與所述第二密封墊相抵,所述第一電荷收集板與所述放射源鍍層之間間隔形成有真空腔體;
第一絕緣襯底,所述第一絕緣襯底形成在所述第一電荷收集板的外周面上,所述第一絕緣襯底的兩端分別與所述金屬襯底的正極端和負(fù)極端平齊;
發(fā)射極板,所述發(fā)射極板設(shè)置在所述第一絕緣襯底的外周面上;
第三密封墊,所述第三密封墊呈環(huán)狀,所述第三密封墊套設(shè)在所述發(fā)射極板的一端,且所述第三密封墊的外表面與所述金屬襯底的正極端平齊;
第四密封墊,所述第四密封墊呈環(huán)狀,所述第四密封墊套設(shè)在所述第一絕緣襯底的一端,且與所述發(fā)射極板相抵;
第二電荷收集板,所述第二電荷收集板套設(shè)在所述發(fā)射極板的外周,且所述第二電荷收集板一端的端面與所述第三密封墊相抵,所述第二電荷收集板另一端的內(nèi)周面與所述第四密封墊相抵,所述第二電荷收集板與所述發(fā)射極板之間間隔形成有腔體,所述腔體內(nèi)填充有填充介質(zhì);
第二絕緣襯底,所述第二絕緣襯底形成在所述第二電荷收集板的外周面上;
熱電組件,所述熱電組件設(shè)置在所述第二絕緣襯底的外周面上,且所述熱電組件兩端的端面上分別設(shè)置有電學(xué)輸出電極;
其中,所述第一電荷收集板和所述第二電荷收集板由Nb、NbN、Mo、Sn(ITO)或AI(ZAO)形成,所述發(fā)射極板由W、Ta、Re或Mo形成,所述填充介質(zhì)為Cs氣體;
正極,所述正極設(shè)置在所述換能結(jié)構(gòu)的正極端;
負(fù)極,所述負(fù)極設(shè)置在所述換能結(jié)構(gòu)的負(fù)極端;
緩沖墊,所述緩沖墊包裹在所述換能結(jié)構(gòu)的外周面以及所述正極和所述負(fù)極的一部分上;
內(nèi)封裝層,所述內(nèi)封裝層包裹在所述緩沖墊的外表面上;以及
外封裝散熱層,所述外封裝散熱層包裹在所述內(nèi)封裝層的外表面上,所述外封裝散熱層與所述正極和所述負(fù)極之間設(shè)置有絕緣環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直接收集-熱離子發(fā)射-熱電同位素電池,其特征在于,所述直接收集-熱離子發(fā)射-熱電同位素電池呈圓柱狀、橢圓柱狀、棱柱狀或正棱柱狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直接收集-熱離子發(fā)射-熱電同位素電池,其特征在于,所述金屬襯底由W、Cu或Cr形成。
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