[發(fā)明專利]一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711064334.5 | 申請日: | 2017-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN107910512B | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡俊青;唐蓉;鄒儒佳;張劍華;師雨婷;徐超霆;崔哲;何書昂 | 申請(專利權(quán))人: | 東華大學(xué) |
| 主分類號: | H01M4/36 | 分類號: | H01M4/36;H01M4/48;H01M4/583;H01M10/052 |
| 代理公司: | 上海泰能知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31233 | 代理人: | 黃志達;魏峯 |
| 地址: | 201620 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多層 結(jié)構(gòu) 復(fù)合 電極 材料 制備 方法 | ||
1.一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,包括:
(1)將SiO2微球分散在Tris緩沖溶液中,加入鹽酸多巴胺,攪拌反應(yīng),經(jīng)離心洗滌,真空干燥,得到SiO2@PDA;其中SiO2微球、鹽酸多巴胺的用量比為0.1~0.2g:0.2~0.3g;
(2)將步驟(1)得到的SiO2@PDA分散在無水乙醇和氨水的混合液中,攪拌反應(yīng),加入鈦酸四丁酯TBOT,繼續(xù)攪拌反應(yīng),經(jīng)離心洗滌,真空干燥,得到SiO2@PDA@TiO2;其中SiO2@PDA、無水乙醇、氨水、TBOT的用量比為0.1~0.3g:100mL:0.3mL:0.5~1.5mL;
(3)將步驟(2)得到的SiO2@PDA@TiO2分散在Tris緩沖溶液中,加入鹽酸多巴胺,攪拌反應(yīng),經(jīng)離心洗滌,真空干燥,得到SiO2@PDA@TiO2@PDA;其中SiO2@PDA@TiO2、鹽酸多巴胺的用量比為0.1~0.15g:0.1~0.2g;
(4)將步驟(3)得到的SiO2@PDA@TiO2@PDA置于惰性氣氛下煅燒,得到SiO2@C@TiO2@C用NaOH溶液刻蝕,經(jīng)離心洗滌,真空干燥,得到空心-C@TiO2@C;
(5)將步驟(4)得到的空心-C@TiO2@C與升華硫按質(zhì)量比1:0.1~10混合研磨均勻后,在N2氣氛下煅燒,得到多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料S@C@TiO2@C。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中的SiO2微球是采用法以2.5mL正硅酸乙酯TEOS、27.5mL無水乙醇、22.5mL去離子水、7.5mL質(zhì)量分數(shù)為26~30%的氨水為原料,常溫攪拌4~6h,經(jīng)離心洗滌,真空干燥制得。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中攪拌反應(yīng)的工藝參數(shù)為:反應(yīng)溫度為40~50℃,反應(yīng)時間為10~40min;加入TBOT繼續(xù)攪拌反應(yīng)的工藝參數(shù)為:反應(yīng)溫度為40~50℃,反應(yīng)時間為20~24h。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)和(3)中的Tris緩沖溶液的pH=8~9;攪拌反應(yīng)的時間均為9~12h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)、(2)和(3)中的分散均為超聲分散,超聲分散時間為10~40min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)、(2)、(3)和(4)中離心洗滌的工藝條件均為用去離子水、無水乙醇各洗滌3次。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(4)中惰性氣氛為氬氣氣氛;煅燒的工藝參數(shù)為:煅燒溫度為400~900℃,升溫速率為2℃/min,煅燒時間為2~4h。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(4)中NaOH刻蝕的工藝條件為:用50~100mL的濃度為2~6mol/L的NaOH溶液在40~100℃條件下刻蝕4~20h。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(5)中研磨的時間為10~40min;煅燒的工藝參數(shù)為:煅燒溫度為150~160℃,煅燒時間為22~26h。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料的制備方法,其特征在于:所述步驟(5)中的多層核殼結(jié)構(gòu)復(fù)合電極材料作為負載硫S的導(dǎo)電框架應(yīng)用于鋰硫電池電極材料。
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