[發明專利]一種光控型-離子印跡吸附劑及制備方法與再生方法

有效

• 申請號: 201711064096.8
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN107694536B
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發明（設計）人: 王睿;黃巖
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: B01J20/26
• 分類號: B01J20/26;B01J20/30;B01J20/34;C02F1/28;C02F1/30
• 代理公司: 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221
• 代理人: 王志坤

1.一種光控型-離子印跡吸附劑的制備方法，其特征是，將大環化合物、光敏單體和鋰鹽混合均勻制備原料溶液，向原料溶液中添加載體、交聯劑和引發劑，在惰性氣氛條件下進行反應獲得含有模板離子的印跡聚合物，將含有模板離子的印跡聚合物放入水中，在紫外光照射條件下解吸出模板離子即可獲得光控型-離子印跡吸附劑，所述大環化合物為杯芳烴、環糊精、冠醚或葫蘆脲，所述光敏單體為螺吡喃、偶氮苯衍生物、二芳基乙烯或俘精酸酐。

2.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述大環化合物、光敏單體和鋰鹽的質量比為0.01～10:0.01～10:0.01～10。

3.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，采用甲醇與二甲基亞砜的混合物作為原料溶液的溶劑。

4.如權利要求3所述的制備方法，其特征是，所述甲醇與二甲基亞砜的體積比為1～15:1。

5.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述大環化合物、載體及交聯劑的投入比為0.01～10:0.01～8:1.2～9，g：g：mL。

6.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述引發劑的加入量為大環化合物與光敏單體總質量的0.05～10％。

7.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述惰性氣氛為氮氣。

8.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述的交聯劑為四乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙二醇二甲基丙烯酸酯或三烯丙基異氰脲酸酯。

9.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述的引發劑為2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、偶氮二異丁腈、過氧化苯甲酰或過硫酸鉀。

10.如權利要求1所述的制備方法，其特征是，所述載體為氮化碳。

11.如權利要求10所述的制備方法，其特征是，所述氮化碳的制備方法，將三聚氰胺與二氧化硅混合后在550±10℃下進行煅燒，再放入至氟化氫銨溶液中浸泡后即可。

12.一種權利要求1～11任一所述的制備方法制備的光控型-離子印跡吸附劑。

13.一種利用權利要求12所述的光控型-離子印跡吸附劑提取鋰的方法，其特征是，采用可見光照射含有權利要求12所述的光控型-離子印跡吸附劑和鋰離子的水溶液。

14.一種權利要求12所述的光控型-離子印跡吸附劑的再生方法，其特征是，將吸附鋰離子后的光控型-離子印跡吸附劑放入水中在紫外光照射條件下進行解吸即可。