[發明專利]掩模板、蒸鍍掩模板組件、蒸鍍設備及掩模板的制作方法

在審

• 申請號: 201711062791.0
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN107587106A
• 公開（公告）日: 2018-01-16
• 發明（設計）人: 吳建鵬;徐鵬;楊忠英;羅昶;李雪萍;黃立為;于名印;馮巧;佘建民;胡紅偉;曹英;宋德雄;辛燕霞;周才龍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,劉偉

1.一種掩模板，包括掩模板主體，所述掩模板主體上設有遮擋部和多個開口部；其特征在于，所述掩模板主體包括相背的兩個面，其中在所述相背的兩個面中至少一個面上的預定區域處設有磁性層。

2.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，

所述掩模板主體包括中部區域和位于所述中部區域外圍的邊緣區域，其中所述預定區域包括所述掩模板主體的中部區域，且所述磁性層具有與所述中部區域處的開口部對應的開口圖案。

3.根據權利要求2所述的掩模板，其特征在于，

所述磁性層在所述中部區域的中心位置處的磁性大于所述磁性層在所述中部區域的邊緣位置處的磁性。

4.根據權利要求3所述的掩模板，其特征在于，

所述磁性層的厚度從所述中部區域的中心向所述中部區域的邊緣逐漸減小，以使所述磁性層的磁性從所述中部區域的中心向所述中部區域的邊緣逐漸減小。

5.根據權利要求4所述的掩模板，其特征在于，

所述磁性層包括依次覆蓋于所述掩模板主體上的多層磁性材料薄膜，且所述多層磁性材料薄膜從靠近所述掩模板主體的一側至遠離所述掩模板主體的一側、每層磁性材料薄膜的覆蓋面積逐漸減小。

6.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，

所述遮擋部包括用于限定出異形部分的異形遮擋部和用于限定出矩形部分的矩形遮擋部，所述異形遮擋部與所述矩形遮擋部相連并限定出所述開口部形狀，其中所述預定區域包括所述異形遮擋部的至少部分區域，或者，所述預定區域包括所述矩形遮擋部中與所述異形遮擋部相鄰的至少部分區域。

7.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，

所述掩模板主體包括多個支撐條和多個遮擋條，所述多個支撐條和所述多個遮擋條縱橫交錯，以形成所述遮擋部和所述開口部，所述磁性層設置在所述支撐條和/或所述遮擋條上。

8.一種蒸鍍掩模板組件，其特征在于，包括：

第一掩模板，所述第一掩模板為如權利要求1至7任一項所述的掩模板；

疊放于所述第一掩模板之上的第二掩模板，所述第二掩模板為精細金屬掩模板FMM；

以及，框架，所述第一掩模板和所述第二掩模板的四周邊緣焊接在所述框架上。

9.根據權利要求8所述的蒸鍍掩模板組件，其特征在于，

所述第一掩模板相背的兩個面中面向所述精細金屬掩模板FMM的一面上設置所述磁性層。

10.一種蒸鍍設備，其特征在于，包括如權利要求8或9所述的蒸鍍掩模板組件。

11.一種掩模板的制作方法，其特征在于，所述方法用于制作如權利要求1至7任一項所述的掩模板，所述方法包括：

在所述掩模板主體的相背的兩個面中至少一個面上的預定區域處形成磁性層。

12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法中，在所述掩模板主體的相背的兩個面中至少一個面上的預定區域處形成磁性層，具體包括：

形成所述掩模板主體，所述掩模板主體上具有所述遮擋部和所述開口部，且所述掩模板主體包括中部區域和位于所述中部區域外圍的邊緣區域；

在所述掩模板主體的中部區域沉積磁性材料，以形成所述磁性層。

13.根據權利要求12所述的方法，其特征在于，所述方法中，在所述掩模板主體的中部區域沉積磁性材料時，所述磁性層的厚度從所述中部區域的中心向所述中部區域的邊緣逐漸減小。

14.根據權利要求13所述的方法，其特征在于，所述方法中，在所述掩模板主體的中部區域沉積磁性材料時，具體包括：

依次在所述掩模板主體的中部區域沉積多層磁性材料薄膜，且所述多層磁性材料薄膜從靠近所述掩模板主體的一側至遠離所述掩模板主體的一側、每層磁性材料薄膜的覆蓋面積逐漸減小。

15.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，用于制作如權利要求6所述的掩模板，所述在所述掩模板主體的相背的兩個面中至少一個面上的預定區域處形成磁性層具體包括：

形成所述掩模板主體；

在所述掩模板主體的異形遮擋部的至少部分區域沉積磁性材料，或者，在矩形遮擋部中與所述異形遮擋部相鄰的至少部分區域上沉積磁性材料，以形成所述磁性層。