[發明專利]寬帶寬、高均勻性的級聯分光膜陣列波導及其應用有效
| 申請號: | 201711062635.4 | 申請日: | 2017-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN107728253B | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發明(設計)人: | 李勇;吳斐;鄭臻榮 | 申請(專利權)人: | 北京亮亮視野科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/125 | 分類號: | G02B6/125;G02B27/01 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 張德斌;姚亮 |
| 地址: | 100026 北京市海淀區中*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 寬帶 均勻 級聯 分光 陣列 波導 及其 應用 | ||
1.一種寬帶寬、高均勻性的級聯分光膜陣列波導,其中,所述級聯分光膜陣列波導包括多片玻璃基底以及夾在相鄰兩片玻璃基底中間的分光膜系陣列,每片分光膜系陣列結構均分別各自獨立為:α1Hβ1L/α2Hβ2L/…αn-1Hβn-1L/αnHβnL,其中H為高折射率材料膜層,L為低折射率材料膜層,各分光膜系陣列的膜層層數分別為2n。
2.根據權利要求1所述的級聯分光膜陣列波導,其中,所述分光膜系陣列各膜層的平均透過率為50-80%。
3.根據權利要求1所述的級聯分光膜陣列波導,其中,相鄰兩片分光膜系陣列之間的垂直距離為2-5mm。
4.根據權利要求1所述的級聯分光膜陣列波導,其中,所述高折射率材料H的折射率n>2.0(優選高折射率材料為Ta2O5);所述低折射率材料L的折射率n<1.5(優選低折射率材料為SiO2)。
5.根據權利要求1所述的級聯分光膜陣列波導,其中,各分光膜系陣列的膜層層數2n為4-12,優選為6-8。
6.根據權利要求1所述的級聯分光膜陣列波導,其中,玻璃基底的底面與分光膜系陣列的夾角為20°-45°,優選為25°-35°,更優選為27.5°。
7.根據權利要求1所述的級聯分光膜陣列波導,其中,所述分光膜陣列波導中的分光膜系陣列為4片(優選所述級聯分光膜陣列波導由五片玻璃基底、以及夾在相鄰兩個基底中間的總數為4片的分光膜系陣列組成);(優選4片分光膜系陣列按照沿光線入射方向的順序各自設置的膜層層數2n分別為8、6、6和6)。
8.根據權利要求7所述的級聯分光膜陣列波導,其中,級聯分光膜陣列波導的分光膜系陣列按照沿光線入射方向的順序分別為S1分光膜系陣列、S2分光膜系陣列、S3分光膜系陣列、和S4分光膜系陣列,其中,S1分光膜系陣列的總厚度為392.58nm、S2分光膜系陣列的總厚度為531.94nm、S3分光膜系陣列的總厚度為507.48nm、和S4分光膜系陣列的總厚度為587.00nm;(優選所述級聯分光膜陣列按照沿光線入射方向設置的分光膜系陣列的第一層均為Ta2O5層)(其中優選:
S1分光膜系陣列從上到下各膜層的厚度分別為:16.69nm、51.31nm、85.72nm、41.53nm、115.00nm、62.42nm、9.67nm、10.24nm;
S2分光膜系陣列從上到下各膜層的厚度分別為:24.33nm、64.75nm、49.71nm、90.03nm、112.12nm、191.00nm;
S3分光膜系陣列從上到下各膜層的厚度分別為:20.62nm、57.20nm、66.11nm、73.20nm、107.25nm、183.10nm;
S4分光膜系陣列從上到下各膜層的厚度分別為:27.30nm、94.40nm、72.90nm、88.30nm、110.40nm、193.70nm)。
9.權利要求1~8任意一項所述的寬帶寬、高均勻性的級聯分光膜陣列波導在顯示系統中的應用。
10.根據權利要求9所述的應用,其中,所述顯示系統為近眼顯示系統。
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