[發明專利]抗氧化電容器薄膜在審
| 申請號： | 201711062224.5 | 申請日： | 2017-11-02 |
| 公開（公告）號： | CN107731526A | 公開（公告）日： | 2018-02-23 |
| 發明（設計）人： | 丁左宏 | 申請（專利權）人： | 江蘇田字格新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | H01G4/33 | 分類號： | H01G4/33;H01G4/015;H01G4/008 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 226500 江蘇省南通市如皋市城南*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 電容器 薄膜 | ||
【權利要求書】：
1.抗氧化電容器薄膜，其特征在于，包括基膜(1)和順序鍍于所述基膜(1)上的第一鋁鍍層(2)、鋅鍍層(3)、第二鋁鍍層(4)和硅油保護層(5)，所述鋅鍍層(3)具有凸形加厚區(3a)，所述的第二鋁鍍層(4)具有凹陷區(4a)，所述凸形加厚區(3a)由所述凹陷區(4a)容納。
2.根據權利要求1所述的抗氧化電容器薄膜，其特征在于：所述的基膜(1)的厚度為3-15μm。
3.根據權利要求2所述的抗氧化電容器薄膜，其特征在于：所述的鋅鍍層(3)凸形加厚區(3a)的厚度為10-20mm。
4.根據權利要求3所述的抗氧化電容器薄膜，其特征在于：所述的基膜為1-60個。
5.根據權利要求1-4中任意一項所述的抗氧化電容器薄膜，其特征在于：所述基膜(1)的寬度為9mm-620mm。
6.根據權利要求5所述的抗氧化電容器薄膜，其特征在于：所述凸形加厚區(3a)位于所述鋅鍍層(3)的中心。
7.根據權利要求6所述的抗氧化電容器薄膜，其特征在于：所述凹陷區(4a)位于所述第二鋁鍍層(4)的中心。
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