[發明專利]補償透鏡熱效應的方法

有效

• 申請號: 201711059863.6
• 申請日: 2017-11-01
• 公開（公告）號: CN109752926B
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 許健;張建峰;張書慶
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 高偉;婁曉丹

1.一種用于補償透鏡熱效應的方法，其特征在于，包括以下步驟：

將待曝光產品的信息與所存儲的產品信息進行比較，以確定所述待曝光產品是否滿足預設條件；

如果滿足所述預設條件，則直接調用所存儲的透鏡熱效應補償參數進行曝光；

如果不滿足所述預設條件，則計算出所述待曝光產品的當前透鏡熱補償參數，并存儲到內部數據庫中，

其中所述預設條件包括：

光罩的ID相同；和

產品程式里的能量相差不超過10％；和

產品程式里的光圈大小和入射角相同。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，其中所述計算出所述待曝光產品的當前透鏡熱補償參數的步驟包括：

執行反射率修正步驟以計算出所述待曝光產品的反射率修正值；

測量出曝光前后透鏡的焦點偏移值和放大率偏移值；以及

基于所述反射率修正值、所述焦點偏移值和放大率偏移值，計算出所述當前透鏡熱補償參數。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，其中所述反射率修正步驟包括：

測量出所用光罩的實際穿透率；

采用機臺標準補償參數進行曝光；

計算出每片晶圓的曝光圖形數量；

計算出曝光晶圓的數量；

計算出透鏡實際曝光的時間；

測量出晶圓的實際反射率；

計算出晶圓的所述反射率修正值。

4.如權利要求2所述的方法，其特征在于，其中測量出曝光前后透鏡的焦點偏移值和放大率偏移值的步驟包括：

測量出曝光前透鏡的固有焦點值和固有放大率值；

測量出曝光后透鏡的實際焦點值和實際放大率值；以及

將所述實際焦點值與所述固有焦點值進行比較、將所述實際放大率值與所述固有放大率值進行比較，以計算出曝光后透鏡的焦點偏移值和放大率偏移值。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，決定所述能量的大小的因素包括：曝光劑量；掩膜板的透光率；快門的設置；光圈及入射角的設置；晶圓表面的反射率；單片晶圓的曝光圖形數量和參與曝光的晶圓數量。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將待曝光產品的信息與所存儲的產品信息進行比較的步驟由服務器執行。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述計算出所述待曝光產品的當前透鏡熱補償參數的步驟由套刻機系統執行。

8.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述測量出曝光前透鏡的固有焦點值和固有放大率值的步驟以及所述測量出曝光后透鏡的實際焦點值和實際放大率值的步驟由圖像傳感器來執行。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述圖像傳感器運行焦平面測試方法。